VeTek Semiconductor es un fabricante líder de materiales de recubrimiento de carburo de tantalio para la industria de semiconductores. Nuestra principal oferta de productos incluye piezas con revestimiento de carburo de tantalio CVD, piezas con revestimiento de TaC sinterizado para el crecimiento de cristales de SiC o procesos de epitaxia de semiconductores. Aprobado ISO9001, VeTek Semiconductor tiene un buen control de calidad. VeTek Semiconductor se dedica a convertirse en innovador en la industria de recubrimientos de carburo de tantalio mediante la investigación y el desarrollo continuos de tecnologías iterativas.
Los principales productos sonAnillo guía recubierto de TaC, Anillo guía de tres pétalos recubierto de CVD TaC, Media luna recubierta de TaC de carburo de tantalio, Susceptor epitaxial planetario de SiC con revestimiento CVD TaC, Anillo de recubrimiento de carburo de tantalio, Grafito poroso recubierto de carburo de tantalio, Susceptor de rotación de recubrimiento TaC, Anillo de carburo de tantalio, Placa de rotación de recubrimiento TaC, Susceptor de oblea recubierta de TaC, Anillo deflector recubierto de TaC, Cubierta de revestimiento CVD TaC, Mandril recubierto de TaCetc., la pureza es inferior a 5 ppm y puede cumplir con los requisitos del cliente.
El grafito con revestimiento de TaC se crea recubriendo la superficie de un sustrato de grafito de alta pureza con una fina capa de carburo de tantalio mediante un proceso patentado de deposición química de vapor (CVD). La ventaja se muestra en la siguiente imagen:
El recubrimiento de carburo de tantalio (TaC) ha llamado la atención debido a su alto punto de fusión de hasta 3880 °C, excelente resistencia mecánica, dureza y resistencia a los choques térmicos, lo que lo convierte en una alternativa atractiva a los procesos de epitaxia de semiconductores compuestos con requisitos de temperatura más altos. como el sistema Aixtron MOCVD y el proceso de epitaxia LPE SiC. También tiene una amplia aplicación en el proceso de crecimiento de cristales de SiC del método PVT.
Características clave:
●Estabilidad de temperatura
●Pureza ultraalta
●Resistencia a H2, NH3, SiH4,Si
●Resistencia al stock térmico.
●Fuerte adherencia al grafito.
●Cobertura de revestimiento conformado
● Tamaño hasta 750 mm de diámetro (El único fabricante en China alcanza este tamaño)
Aplicaciones:
●Portador de oblea
● Susceptor de calentamiento inductivo
● Elemento calefactor resistivo
●Disco satelital
●cabezal de ducha
●Anillo guía
●Receptor LED Epi
●Boquilla de inyección
●anillo de enmascaramiento
● Escudo térmico
Recubrimiento de carburo de tantalio (TaC) en una sección transversal microscópica:
Parámetro del recubrimiento de carburo de tantalio semiconductor VeTek:
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Propiedades físicas del recubrimiento TaC.
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Densidad
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14,3 (g/cm³)
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Emisividad específica
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0.3
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Coeficiente de expansión térmica
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6.3 10-6/K
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Dureza (HK)
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2000 Hong Kong
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Resistencia
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1×10-5Ohmios*cm
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Estabilidad térmica
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<2500℃
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Cambios de tamaño de grafito
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-10~-20um
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Espesor del recubrimiento
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Valor típico ≥20um (35um±10um)
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Datos EDX del recubrimiento TaC：
Datos de la estructura cristalina del recubrimiento TaC:
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Elemento
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Porcentaje atómico
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pt. 1
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pt. 2
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pt. 3
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Promedio
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CK
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52.10
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57.41
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52.37
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53.96
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A ellos
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47.90
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42.59
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47.63
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46.04
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