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Halfmoon es un componente de grafito utilizado dentro de los reactores LPE SiC, instalado principalmente alrededor de la zona caliente de la cámara. Aunque no entra en contacto directo con la oblea, aún desempeña un papel en la estabilidad del flujo de gas y el funcionamiento del reactor durante el crecimiento epitaxial. Para manejar altas temperaturas y condiciones de proceso reactivo, el componente generalmente se protege con un recubrimiento CVD de SiC, mientras que el recubrimiento de TaC también está disponible para algunas aplicaciones. VETEK también suministra aislamiento de fieltro de grafito y otras piezas recubiertas de grafito para sistemas de epitaxia de SiC.

El anillo superior SiC epi de 8 pulgadas es una pieza de hardware para reactores semiconductores. Funciona dentro de sistemas epitaxia Si/SiC y MOCVD/CVD. Este anillo estabiliza el calor dentro de la cámara. También controla el flujo de gases. El material es carburo de silicio CVD de alta pureza. No tiene los problemas de desgasificación del grafito. También reduce la contaminación por partículas durante la producción. Agradecemos sus consultas.

VETEK ha desarrollado nuestro fieltro suave de fibra de carbono utilizando una combinación de cardado de precisión y tecnología de chorro de aire. podemos garantizar una estructura de fibra altamente uniforme en todo el material. Está construido para soportar el intenso calor de los hornos industriales y al mismo tiempo sigue siendo increíblemente liviano. Gracias a su masa térmica tan baja y su textura flexible, es fácil de instalar y encaja perfectamente en las esquinas del horno, lo que ayuda a maximizar la eficiencia energética en cada ciclo.

La calidad del material inicial es el factor principal que limita el rendimiento de las obleas en la producción de monocristales de SiC. El CVD SiC a granel de alta pureza 7N de VETEK ofrece una alternativa policristalina de alta densidad a los polvos tradicionales, diseñada específicamente para el transporte físico de vapor (PVT). Al utilizar una forma CVD a granel, eliminamos los defectos de crecimiento comunes y mejoramos significativamente el rendimiento del horno. Esperamos su consulta.

En la fabricación avanzada como difusión, oxidación o LPCVD, la oblea no es solo un soporte: es una parte fundamental del entorno térmico. A temperaturas que alcanzan los 1000 °C y 1400 °C, los materiales estándar a menudo fallan debido a deformaciones o desgasificación. La solución SiC-on-SiC (sustrato de alta pureza con un recubrimiento CVD denso) de VETEK está diseñada específicamente para estabilizar estas variables de alto calor.

Los entornos químicamente reactivos y de alta temperatura de MOCVD, la protección de la cámara de reacción y la precisión del control del proceso son primordiales. VETEK proporciona componentes de cuarzo opaco (blanco lechoso) de primera calidad, diseñados específicamente para actuar como "sala limpia" y "puerta de precisión" dentro de su equipo semiconductor. Estos componentes ofrecen una solución rentable pero de alto rendimiento para gestionar la radiación térmica y prevenir la contaminación.