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El portador RTP RTA de grafito recubierto de carburo de silicio (SiC) VETEK CVD está diseñado para sistemas de procesamiento térmico rápido (RTP) y recocido térmico rápido (RTA) utilizados en la fabricación de semiconductores. Fabricado con grafito isostático de alta pureza con un denso recubrimiento CVD SiC, proporciona una excelente estabilidad térmica, una excelente uniformidad de temperatura, una resistencia química superior y una generación de partículas ultrabaja. Diseñado para soportar ciclos rápidos y repetidos de calentamiento y enfriamiento, el portador garantiza un soporte confiable para las obleas y un rendimiento estable del proceso para el recocido de obleas de silicio y otras aplicaciones de semiconductores de alta temperatura.

El susceptor recubierto de TaC CVD VETEK combina un sustrato de grafito isostático de alta pureza con un recubrimiento denso de carburo de tantalio (TaC) CVD para ofrecer una estabilidad térmica excepcional, resistencia a la corrosión y baja generación de partículas para epitaxia de semiconductores exigentes. Diseñado para el crecimiento epitaxial de SiC, GaN y AlN, minimiza la contaminación, mejora la uniformidad de la temperatura de las obleas y extiende la vida útil de los componentes en procesos MOCVD y CVD de alta temperatura.

El susceptor RTP recubierto de CVD SiC de VeTek Semiconductor sirve para equipos de procesamiento térmico rápido (RTP) y recocido térmico rápido (RTA) utilizados en la fabricación de semiconductores. El sustrato se mecaniza a partir de grafito isostático de alta pureza, sobre el cual se deposita una densa capa de carburo de silicio (SiC) CVD. Esta construcción produce una alta conductividad térmica, una sólida inercia química y una estabilidad dimensional sostenida bajo ciclos repetidos de alta temperatura.

Para aplicaciones exigentes de crecimiento de cristales semiconductores, el crisol de grafito de tres piezas VETEK ofrece la estabilidad, pureza y uniformidad térmica que requiere el proceso. Fabricado con grafito isostático de alta calidad (con recubrimientos opcionales de SiC, TaC o PyC), su diseño dividido no es solo por conveniencia. Reduce activamente el estrés térmico, agiliza el mantenimiento y sigue funcionando ciclo tras ciclo.

El anillo recubierto VETEK PG (grafito pirolítico) está diseñado específicamente para campos térmicos de semiconductores y entornos de crecimiento de cristales donde la distribución uniforme del calor y las temperaturas estables no son negociables. Comenzando con una base de grafito de alta pureza y acabado con un denso revestimiento de grafito pirolítico, este componente ofrece una conductividad térmica excepcional, resiste choques térmicos severos y conserva sus dimensiones durante largos ciclos a temperaturas extremas. Encontrará que estos anillos se utilizan ampliamente en hornos de crecimiento de cristales, hornos de alta temperatura y conjuntos de campo térmico para semiconductores, en cualquier lugar donde el control preciso de la temperatura impulse directamente la repetibilidad del proceso y la calidad del producto final.

Si alguna vez ha tenido que lidiar con un flujo de gas desigual o contaminación por partículas en una cámara de deposición, el cabezal de ducha de grafito recubierto de SiC CVD VETEK está diseñado para resolverlo. Comienza con grafito isostático de alta pureza para lograr estabilidad térmica y fácil mecanizado, luego obtiene un recubrimiento denso de carburo de silicio (SiC) CVD que sella la superficie, resiste gases corrosivos (como HCl o NF₃) y evita la desgasificación. El resultado es una placa de distribución de gas que proporciona un flujo uniforme a través de la oblea, soporta epitaxia de alta temperatura y dura mucho más que el grafito o el cuarzo desnudo, lo que la convierte en un componente confiable para procesos CVD, PECVD, MOCVD, epitaxia de silicio y epitaxia de SiC. También ofrecemos patrones y tamaños de orificios personalizados, porque no hay dos reactores exactamente iguales.