Productos

Los crisoles de cuarzo de calidad semiconductora de Veteksemicon son consumibles clave en el proceso de crecimiento de monocristales de Czochralski. Con una pureza extrema y una estabilidad térmica superior como nuestro enfoque principal, estamos comprometidos a brindar a los clientes productos de alta calidad que exhiban un rendimiento estable y una excelente resistencia a la cristalización en ambientes de alta temperatura y alta presión. Esto garantiza la calidad de las varillas de cristal desde la fuente, lo que ayuda a que la fabricación de obleas de silicio semiconductor alcance mayores rendimientos y una mejor rentabilidad.

El anillo de enfoque Veteksemicon está diseñado específicamente para equipos de grabado de semiconductores exigentes, en particular aplicaciones de grabado de SiC. Montado alrededor del mandril electrostático (ESC), muy cerca de la oblea, su función principal es optimizar la distribución del campo electromagnético dentro de la cámara de reacción, asegurando una acción del plasma uniforme y enfocada en toda la superficie de la oblea. Un anillo de enfoque de alto rendimiento mejora significativamente la uniformidad de la tasa de grabado y reduce los efectos de los bordes, lo que aumenta directamente el rendimiento del producto y la eficiencia de la producción.

La placa portadora de carburo de silicio Veteksemicon para grabado de LED, diseñada específicamente para la fabricación de chips LED, es un consumible central en el proceso de grabado. Fabricado con carburo de silicio de alta pureza sinterizado con precisión, ofrece una resistencia química excepcional y estabilidad dimensional a altas temperaturas, resistiendo eficazmente la corrosión de ácidos, bases y plasma fuertes. Sus propiedades de baja contaminación garantizan altos rendimientos para las obleas epitaxiales LED, mientras que su durabilidad, que supera con creces la de los materiales tradicionales, ayuda a los clientes a reducir los costos operativos generales, lo que las convierte en una opción confiable para mejorar la eficiencia y la consistencia del proceso de grabado.

El bote de grafito Veteksemicon para PECVD está mecanizado con precisión a partir de grafito de alta pureza y diseñado específicamente para procesos de deposición química de vapor mejorados con plasma. Aprovechando nuestro profundo conocimiento de los materiales semiconductores de campo térmico y nuestras capacidades de mecanizado de precisión, ofrecemos botes de grafito con una estabilidad térmica excepcional, una conductividad excelente y una larga vida útil. Estos botes están diseñados para garantizar una deposición de películas delgadas altamente uniforme en cada oblea en el exigente entorno de proceso PECVD, mejorando el rendimiento y la productividad del proceso.

El anillo de grafito recubierto de CVD TaC de Veteksemicon está diseñado para satisfacer las demandas extremas del procesamiento de obleas semiconductoras. Utilizando la tecnología de deposición química de vapor (CVD), se aplica un recubrimiento denso y uniforme de carburo de tantalio (TaC) a sustratos de grafito de alta pureza, logrando una dureza, resistencia al desgaste e inercia química excepcionales. En la fabricación de semiconductores, el anillo de grafito recubierto de CVD TaC se usa ampliamente en cámaras MOCVD, de grabado, de difusión y de crecimiento epitaxial, y sirve como componente estructural o de sellado clave para portadores de obleas, susceptores y conjuntos de blindaje. Esperamos su consulta adicional.

El anillo de grafito poroso recubierto de TaC producido por VETEK utiliza un sustrato de grafito poroso liviano y está recubierto con un recubrimiento de carburo de tantalio de alta pureza, que presenta una excelente resistencia a altas temperaturas, gases corrosivos y erosión por plasma.