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Tecnología de tratamiento de superficie

In semiconductor manufacturing, surface treatment technology plays a crucial role in enhancing the durability, performance, and reliability of components by modifying their surface properties through advanced coating and deposition methods.


Physical Vapor Deposition (PVD)


Physical Vapor Deposition PVD is a vacuum-based coating process that deposits thin films onto substrates through vaporization of solid materials. It enhances surface hardness, thermal resistance, and conductivity, making it essential for semiconductor tools and precision components.


Semiconductor Thermal Spraying Technology


This technique involves high-temperature spraying of fine powders onto surfaces to create dense, protective coatings. It significantly boosts resistance to heat, wear, and corrosion in critical semiconductor components exposed to harsh environments.


MAX Phase Nanopowder


MAX Phase nanopowders are layered ceramics with metallic properties, offering high strength, conductivity, and thermal shock resistance. They are ideal for protective coatings and emerging semiconductor applications requiring high-temperature stability.

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CMP PUDICIÓN SLIGRY

CMP PUDICIÓN SLIGRY

CMP Pulishing Slurry (lechada de pulido mecánico químico) es un material de alto rendimiento utilizado en la fabricación de semiconductores y el procesamiento de materiales de precisión. Su función central es lograr una planitud fina y el pulido de la superficie del material bajo el efecto sinérgico de la corrosión química y la molienda mecánica para cumplir con la planitud y los requisitos de calidad de la superficie a nivel nano. Esperamos su consulta adicional.
Deposición física de vapor

Deposición física de vapor

La deposición física de vapor (PVD) de semiconductores Vetek es una tecnología de proceso avanzada ampliamente utilizada en el tratamiento de superficies y la preparación de películas delgadas. La tecnología PVD utiliza métodos físicos para transformar directamente materiales de sólidos o líquidos a gases y formar una película delgada en la superficie del sustrato objetivo. Esta tecnología tiene las ventajas de alta precisión, alta uniformidad y fuerte adhesión, y se usa ampliamente en semiconductores, dispositivos ópticos, recubrimientos de herramientas y recubrimientos decorativos. ¡Bienvenido a discutir con nosotros!
Tecnología de pulverización térmica condensador MLCC

Tecnología de pulverización térmica condensador MLCC

La tecnología de pulverización térmica de Vetek Semiconductor desempeña un papel extremadamente importante en la aplicación de recubrimiento de crisoles sinterizados para materiales de condensadores cerámicos multicapa (MLCC) de alta gama. Con la miniaturización continua y el alto rendimiento de los dispositivos electrónicos, la demanda de condensadores MLCC con tecnología de pulverización térmica también está creciendo rápidamente, especialmente en aplicaciones de alta gama. Esperamos poder establecer negocios a largo plazo con usted.
Manejo de obleas brazo robótico

Manejo de obleas brazo robótico

La tecnología de pulverización térmica de Vetek Semiconductor desempeña un papel vital en la aplicación de brazos robóticos de manipulación de obleas, especialmente en entornos de fabricación de semiconductores que requieren alta precisión y alta limpieza. Esta tecnología mejora significativamente la durabilidad, confiabilidad y eficiencia del trabajo del equipo al recubrir materiales especiales en la superficie del brazo robótico que manipula las obleas. Bienvenido a consultarnos.
Tecnología de pulverización térmica semiconductora

Tecnología de pulverización térmica semiconductora

La tecnología de pulverización térmica de semiconductores de Vetek Semiconductor es un proceso avanzado que pulveriza materiales en estado fundido o semifundido sobre la superficie de un sustrato para formar un recubrimiento. Esta tecnología es ampliamente utilizada en el campo de la fabricación de semiconductores, utilizándose principalmente para crear recubrimientos con funciones específicas en la superficie del sustrato, como conductividad, aislamiento, resistencia a la corrosión y resistencia a la oxidación. Las principales ventajas de la tecnología de pulverización térmica incluyen alta eficiencia, espesor de recubrimiento controlable y buena adherencia del recubrimiento, lo que la hace particularmente importante en el proceso de fabricación de semiconductores que requiere alta precisión y confiabilidad. Esperamos su consulta.
Nanopolvo de fase MAX

Nanopolvo de fase MAX

El nanopolvo de fase Semiconductor MAX de Veteksemi ofrece propiedades térmicas y eléctricas excepcionales, ideales para aplicaciones avanzadas de electrónica y ciencia de materiales. Con una resistencia superior a la oxidación y estabilidad a altas temperaturas, el nanopolvo de Veteksemi es la solución perfecta para tecnologías de semiconductores innovadoras.
Como fabricante y proveedor profesional Tecnología de tratamiento de superficie en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Tecnología de tratamiento de superficie avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
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