VeTek Semiconductor es su socio innovador en el campo del procesamiento de semiconductores. Con nuestra amplia cartera de combinaciones de materiales cerámicos de carburo de silicio de grado semiconductor, capacidades de fabricación de componentes y servicios de ingeniería de aplicaciones, podemos ayudarle a superar desafíos importantes. Las cerámicas de carburo de silicio técnicas de ingeniería se aplican ampliamente en la industria de semiconductores debido a su excepcional rendimiento material. Las cerámicas de carburo de silicio ultrapuras de VeTek Semiconductor se utilizan con frecuencia durante todo el ciclo de fabricación y procesamiento de semiconductores.
DIFUSIÓN Y PROCESAMIENTO LPCVD
VeTek Semiconductor proporciona componentes cerámicos diseñados específicamente para los requisitos de difusión por lotes y LPCVD, que incluyen:
● Deflectores y soportes
● Inyectores
● Revestimientos y tubos de proceso
● Paletas voladizas de carburo de silicio
● Botes de oblea y pedestales
COMPONENTES DEL PROCESO DE GRABADO
Minimice la contaminación y el mantenimiento no programado con componentes de alta pureza diseñados para los rigores del procesamiento de grabado con plasma, que incluyen:
● Anillos de enfoque
● Boquillas
● Escudos
● Cabezales de ducha
● Ventanas / Tapas
● Otros componentes personalizados
PROCESAMIENTO TÉRMICO RÁPIDO Y COMPONENTES DEL PROCESO EPITAXIAL
VeTek Semiconductor proporciona componentes de materiales avanzados diseñados para aplicaciones de procesamiento térmico de alta temperatura en la industria de los semiconductores. Estas aplicaciones abarcan RTP, procesos Epi, difusión, oxidación y recocido. Nuestras cerámicas técnicas están diseñadas para resistir choques térmicos, brindando un rendimiento confiable y consistente. Con los componentes de VeTek Semiconductor, los fabricantes de semiconductores pueden lograr un procesamiento térmico eficiente y de alta calidad, contribuyendo al éxito general de la producción de semiconductores.
● Difusores
● Aisladores
● Susceptores
● Otros componentes térmicos personalizados
Características clave
● Pureza ultraalta: contenido de SiC >99,96%, silicio libre <0,1%, lo que minimiza la contaminación por metales.
● Excelente comportamiento a altas temperaturas: temperatura de trabajo hasta 1600°C (oxidante) / 1700°C (reductor).
● Resistencia superior al choque térmico y baja expansión térmica para un rendimiento confiable bajo ciclos térmicos rápidos.
● Alta resistencia mecánica (compresión >600 MPa) e inercia química frente a gases de proceso y plasmas.
● Amplia gama de productos para procesos de difusión/LPCVD, grabado, RTP y epi, desde obleas hasta anillos de enfoque y piezas personalizadas.
● Larga vida útil y menor generación de partículas, lo que ayuda a reducir la frecuencia de mantenimiento y mejorar el rendimiento.
Especificaciones del producto
Propiedades físicas del carburo de silicio recristalizado
| Propiedad |
Valor típico |
| Temperatura de trabajo (°C) |
1600°C (con oxígeno), 1700°C (ambiente reductor) |
| Contenido de SiC/SiC |
> 99,96% |
| Contenido de Si/Si libre |
<0,1% |
| densidad aparente |
2,60-2,70 g/cm³ |
| Porosidad aparente |
< 16% |
| Fuerza de compresión |
> 600MPa |
| Resistencia a la flexión en frío |
80-90 MPa (20°C) |
| Resistencia a la flexión en caliente |
90-100MPa (1400°C) |
| Expansión térmica @1500°C |
4,70 × 10⁻⁶/°C |
| Conductividad térmica a 1200°C |
23 W/m·K |
| módulo elástico |
240 GPa |
| Resistencia al choque térmico |
Extremadamente bueno |
Aplicaciones
Para satisfacer las diversas necesidades de los procesos de semiconductores, VeTek ofrece productos cerámicos de carburo de silicio específicos. La siguiente tabla los clasifica por principales áreas de aplicación:
| Campo de aplicación |
Productos típicos |
Descripción de la aplicación |
| Difusión y LPCVD |
Barcos de oblea de SiC, paletas voladizas, tubos de proceso, camisas, inyectores,deflectores y soportes
|
Componentes de SiC de alta pureza para hornos de difusión discontinua y LPCVD; Excelente estabilidad térmica y resistencia química hasta 1600–1700°C, baja contaminación. |
| Proceso de grabado con plasma |
Anillos de enfoque, boquillas, protectores, cabezales de ducha, ventanas/tapas, componentes de grabado personalizados |
Piezas de SiC de alta pureza diseñadas para entornos de grabado con plasma; minimizar la generación de partículas y el mantenimiento no programado, resistencia superior al plasma. |
| RTP / Epitaxial / Procesamiento Térmico |
susceptores, difusores, aisladores, componentes térmicos personalizados |
Componentes para RTP, epi, difusión, oxidación y recocido; Diseñado para resistir choques térmicos y ofrecer un rendimiento constante a altas temperaturas. |
| Crecimiento de cristales de SiC (PVT) |
Polvo de SiC de alta pureza,Materia prima de SiC CVD 7N, piezas relacionadas con la unión de semillas |
Materiales fuente de SiC ultrapuros y componentes de soporte para el crecimiento de monocristales de SiC PVT, lo que mejora el rendimiento y la calidad del cristal. |
| Manipulación y transporte de obleas |
Barcos de oblea de SiC verticales/horizontales, barcos de casete de silicona, pedestales, anillos de sello
|
Portadores de precisión y componentes de sellado que brindan uniformidad térmica, estabilidad mecánica y contaminación mínima durante el procesamiento a alta temperatura. |
Para obtener soluciones de coincidencia de procesos más detalladas, consulte laHorno de oxidación y difusiónpáginas relacionadas.
Como fabricante y proveedor profesional de Cerámica de carburo de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar cerámicas de carburo de silicio avanzadas y duraderas fabricadas en China, puededéjanos un mensaje.
