Tubo de horno de difusión sic

Diagrama esquemático de trabajo del tubo de horno de difusión SIC

El tubo de horno de difusión SEConductor de Vetek tiene las siguientes ventajas de productos:

Excelentes propiedades mecánicas de alta temperatura: El tubo del horno de difusión SIC tiene las mejores propiedades mecánicas de alta temperatura de cualquier material cerámico conocido, incluida una excelente resistencia y resistencia a la fluencia. Esto lo hace particularmente adecuado para aplicaciones que requieren estabilidad a largo plazo a altas temperaturas.

Excelente resistencia a la oxidación: El tubo del horno SIC de difusión SIC de Vetek Semiconductor tiene una excelente resistencia a la oxidación, la mejor de todas las cerámicas no óxidas. Esta propiedad garantiza la estabilidad y rendimiento a largo plazo en entornos de alta temperatura, reduciendo el riesgo de degradación y extendiendo la vida útil del tubo.

● Alta resistencia a la flexión: El tubo del horno de difusión Veteksemi Sic tiene una resistencia a la flexión de más de 200MPa, lo que garantiza excelentes propiedades mecánicas e integridad estructural en las condiciones de alta tensión típica de los procesos de fabricación de semiconductores.

● Excelente resistencia a la corrosióne: La inercia química del tubo de horno SiC proporciona una excelente resistencia a la corrosión, lo que hace que estos tubos sean ideales para su uso en los entornos químicos a menudo encontrados en el procesamiento de semiconductores.

● Resistencia de alta desgaste: Los hornos de tubos SIC tienen una fuerte resistencia al desgaste, lo cual es esencial para mantener la estabilidad dimensional y reducir los requisitos de mantenimiento cuando se usan durante largos períodos de tiempo en condiciones abrasivas.

● Con recubrimiento CVD: Vetek Semiconductor Chemical Vapor Deposition (CVD) SIC El recubrimiento tiene un nivel de pureza superior a 99.9995%, contenido de impureza inferior a 5 ppm e impurezas dañinas de metales inferiores a 1ppm. El proceso de recubrimiento de CVD asegura que el tubo cumpla con los estrictos requisitos de opresión del vacío de 2-3Torr, lo cual es crítico para entornos de fabricación de semiconductores de alta precisión.

● Aplicación en hornos de difusión: Estos tubos SIC están diseñados para hornos de difusión de semiconductores, donde juegan un papel clave en los procesos de alta temperatura, como el dopaje y la oxidación. Sus propiedades de material avanzado aseguran que puedan resistir las duras condiciones de estos procesos, mejorando así la eficiencia y confiabilidad de la producción de semiconductores.

Vetek Semiconductor se ha comprometido durante mucho tiempo a proporcionar tecnología avanzada y soluciones de productos para la industria de semiconductores, y admite servicios profesionales personalizados. Al elegir el tubo de horno de difusión SIC de Vetek Semiconductor, obtendrá un producto con un excelente rendimiento y una alta confiabilidad para satisfacer las diversas necesidades de la fabricación moderna de semiconductores. Esperamos sinceramente ser su socio a largo plazo en China.

Vetek Semiconductor Sic Diffusion Furnace Tube Shops: