Servicios y recursos

Materiales y diseño

Seleccionar la combinación adecuada de sustrato y recubrimiento es la clave para prevenir fallas prematuras de los componentes, reducir la contaminación por partículas y maximizar el rendimiento de las obleas. Proporcionamos soluciones de diseño estructural y de materiales a medida según la ventana de proceso específica del cliente (temperatura de funcionamiento, química del gas reactivo, velocidades de rampa).

Nuestras capacidades principales de diseño:

  • Emparejamiento riguroso de estrés CTE:Para ciclos térmicos rápidos (>100 °C/min), igualamos con precisión las curvas de temperatura CTE de sustratos de grafito de alta pureza y recubrimientos CVD, reduciendo fundamentalmente el riesgo de delaminación y microfisuras del recubrimiento.
  • Selección de recubrimientos específicos del escenario del proceso:Recubrimiento CVD SiC para epitaxia Si/SiC (Epi), MOCVD y entornos de grabado por plasma; Recubrimiento CVD TaC para condiciones de alta temperatura y fuertemente corrosivas (por ejemplo, crecimiento de PVT monocristalino de SiC).
  • Optimización de resistividad controlable y conductividad térmica:Control preciso de la resistividad general y la conductividad térmica del sustrato y el recubrimiento para cumplir con los requisitos específicos de campo eléctrico y térmico de RF, mandriles electrostáticos ESC o zonas de calentamiento.
  • Control de fuentes de contaminación y reducción de CoO:Las capas de deposición CVD de alta pureza sellan densamente el grafito poroso, lo que reduce significativamente el desprendimiento de partículas, la difusión de impurezas metálicas ultratrazas y el riesgo de desgasificación a alta temperatura.

Comparación típica de selección de recubrimientos (guía de un vistazo)

Revestimiento Direcciones de aplicación típicas Ventajas principales
CVD SiC Epitaxia Si/SiC (Epi), MOCVD, grabado parcial con plasma Alta pureza, buena estabilidad térmica, resistencia a la corrosión química, alto costo-rendimiento general
TaC en materia de CVD Crecimiento monocristalino (PVT) de SiC a alta temperatura, componentes que soportan cargas a temperaturas extremadamente altas Clasificación de temperatura más alta (>1600 °C), fuerte resistencia a la corrosión, excelente resistencia a la oxidación

Caso real y beneficios para el cliente (experiencia):

Un fabricante líder de epitaxia de SiC (Epi):El componente original utilizaba un recubrimiento CVD TaC que no coincidía, lo que provocaba una tensión interfacial excesiva y frecuentes microfisuras a alta temperatura. Volvimos a ejecutar simulaciones termodinámicas y cambiamos a unSustrato de grafito especial de alta pureza compatible con CTE + capa amortiguadora + revestimiento CVD SiCsolución. Resultado: la vida útil promedio de los componentes aumentó de 200 horas a 850 horas; la frecuencia de reemplazo anual por herramienta se redujo de 40 a 9 veces; Los ahorros integrales en costos de operación y mantenimiento de equipos superaron los 650 000 RMB por año.

GDMS purity analysis report for TaC coating GDMS purity analysis report for SiC coating

Informe de análisis de pureza GDMS para recubrimientos de TaC y SiC

Preguntas frecuentes

1. P: ¿Cómo debo elegir entre el recubrimiento CVD SiC y el recubrimiento CVD TaC?

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A:Observe la temperatura de su proceso y la intensidad de la corrosión en fase gaseosa. Si la temperatura del proceso es inferior a 1000 °C y se trata principalmente de grabado a base de Cl₂/F₂ o epitaxia convencional, elijaCVD SiCpara obtener la mejor rentabilidad; Si la temperatura del proceso excede los 1200 °C y involucra atmósferas fuertemente corrosivas (por ejemplo, crecimiento monocristalino de SiC PVT), recomendamosTaC en materia de CVD, que ofrece una resistencia superior a la temperatura y la corrosión. Podemos proporcionar un informe de recomendación de selección gratuito basado en los parámetros de su proceso específicos.

2. P: ¿Admiten la creación de prototipos de una sola pieza o de lotes pequeños? ¿Cuál es el plazo de entrega?

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A:¡Sí! Para prototipos de ingeniería inversa,MOQ es 1 pieza. Para piezas simples convencionales, desde la recepción de la muestra hasta la entrega de la pieza mapeada, el tiempo de entrega más rápido es de aproximadamente10 a 15 días laborables; para piezas que involucran procesos de recubrimiento complejos es aproximadamente20-25 días laborables. Póngase en contacto con nuestros ingenieros para una evaluación acelerada.

3. P: ¿Qué causa la delaminación del recubrimiento CVD en piezas de grafito durante el uso? ¿Se puede solucionar?

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A:El 90% de los casos de delaminación se deben a una falta de coincidencia entre el coeficiente de expansión térmica (CTE) del sustrato de grafito y el recubrimiento, lo que provoca un desprendimiento por fatiga bajo un rápido calentamiento/enfriamiento. Nuestra solución: primero mida con precisión la curva CTE de su pieza original, luego ajuste especialmente la densidad del sustrato y el gradiente de temperatura de deposición para que los dos CTE coincidan altamente. La fuerza de unión se puede mejorar a más de1,5 vecesel nivel convencional de la industria.

4. P: ¿Puede proporcionar un CoA (Certificado de análisis) para los productos? ¿Qué datos incluye?

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A:Cada producto enviado viene de serie con unnúmero de serie único + informe CoA completo. El informe incluye: datos de inspección de CMM de dimensiones críticas, mapa de distribución de espesor de recubrimiento multipunto, valores de rugosidad de la superficie (Ra) y conclusiones del análisis de pureza del material (GDMS).

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Teléfono: +86-18069220752(Tina);+86-15988690905(sueros)

Correo electrónico: anny@veteksemi.com

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