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Vetek Semiconductor es un pionero de la industria que se especializa en el desarrollo, la producción y la comercialización de polvo SIC de alta pureza, que son conocidos por su distribución de tamaño de partícula uniforme de ultra alta pureza y su excelente estructura cristalina. La compañía tiene un equipo de investigación y desarrollo compuesto por expertos senior para promover constantemente la innovación tecnológica. Con tecnología de producción avanzada y equipos, la pureza, el tamaño de partícula y el rendimiento del polvo SIC de alta pureza se pueden controlar con precisión. El estricto control de calidad asegura que cada lote cumpla con los estándares de la industria más exigentes, proporcionando un material base estable y confiable para sus aplicaciones de alta gama.
1. Alta pureza: el contenido de SIC es del 99.9999%, el contenido de impureza es muy bajo, lo que reduce el impacto adverso en el rendimiento de los dispositivos semiconductores y fotovoltaicos, y mejora la consistencia y confiabilidad de los productos.
2. Excelentes propiedades físicas: incluyendo alta dureza, alta resistencia y alta resistencia al desgaste, para que pueda mantener una buena estabilidad estructural durante el procesamiento y el uso.
3. Alta conductividad térmica: puede realizar rápidamente calor, ayudar a mejorar la eficiencia de disipación de calor del dispositivo, reducir la temperatura de funcionamiento, extendiendo así la vida útil del dispositivo.
4. Coeficiente de baja expansión: el cambio de tamaño es pequeño cuando cambia la temperatura, reduciendo el agrietamiento del material o la disminución del rendimiento causada por la expansión y contracción térmica.
5. Buena estabilidad química: la resistencia a la corrosión ácida y alcalina puede permanecer estable en un entorno químico complejo.
6. Características de la brecha de banda amplia: con alta resistencia al campo eléctrico de descomposición y velocidad de deriva de saturación de electrones, adecuado para fabricar dispositivos semiconductores de alta temperatura, alta presión, alta frecuencia y alta potencia.
7. Alta movilidad electrónica: es propicio para mejorar la velocidad de trabajo y la eficiencia de los dispositivos semiconductores.
8. Protección ambiental: contaminación relativamente pequeña al medio ambiente en el proceso de producción y uso.
Industria de semiconductores:
- Material de sustrato: se puede utilizar el polvo SIC de alta pureza para fabricar sustrato de carburo de silicio, que puede usarse para fabricar dispositivos de alta frecuencia, alta temperatura y potencia de alta presión y dispositivos de RF.
Crecimiento epitaxial: en el proceso de fabricación de semiconductores, el polvo de carburo de silicio de alta pureza puede usarse como materia prima para el crecimiento epitaxial, que se utiliza para cultivar capas epitaxiales de carburo de silicio de alta calidad en el sustrato.
-El Materiales de empaquetado: el polvo de carburo de silicio de alta pureza se puede utilizar para fabricar materiales de envasado de semiconductores para mejorar el rendimiento de la disipación de calor y la confiabilidad del paquete.
Industria fotovoltaica:
Células de silicio cristalinas: en el proceso de fabricación de células de silicio cristalina, el polvo de carburo de silicio de alta pureza puede usarse como una fuente de difusión para la formación de uniones P-N.
- Batería de película delgada: en el proceso de fabricación de la batería de película delgada, el polvo de carburo de silicio de alta pureza se puede usar como objetivo para la deposición de la película de carburo de silicio.
| Especificación de polvo de carburo de silicio | ||
| Pureza | g / cm3 | 99.9999 |
| Densidad | 3.15-3.20 | 3.15-3.20 |
| Módulo elástico | GPA | 400-450 |
| Dureza | HV (0.3) kg/mm2 | 2300-2850 |
| Tamaño de partícula | malla | 200 ~ 25000 |
| Dureza de la fractura | MPA.M1/2 | 3.5-4.3 |
| Resistividad eléctrica | ohm-cm | 100-107 |

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Veteksemicon offers high-purity silicon carbide (SiC) powder tailored for advanced semiconductor applications including single crystal growth, ceramic sintering, and high-performance coating formulations.
Our powders are synthesized through controlled processes to achieve exceptional purity levels (≥99.999%), low oxygen and metallic contamination, and narrow particle size distributions. This makes them ideal for use in CVD SiC growth, epitaxial layer support, high-density sintered parts, and thermal spray applications. The material is available in various grades—α-SiC and β-SiC—each selected based on crystallography, surface area, and flow characteristics.
Our powders are compatible with additive manufacturing, vacuum plasma spraying (VPS), and hot isostatic pressing (HIP), offering flexibility across R&D and production scales. From bulk lots for crucible production to micro-powders for fine-layer coatings, Veteksemicon ensures consistent batch quality, tight impurity control, and COA traceability.
To request a product spec sheet, MSDS, or discuss custom grading options, visit Veteksemicon’s High Purity SiC Powder page or get in touch with our technical sales team.


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