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Los productores de sustrato SIC comúnmente usan un diseño de crisol con un cilindro de grafito poroso para el proceso de campo caliente. Este diseño aumenta el área de evaporación y el volumen de carga. Se ha desarrollado un nuevo proceso para abordar los defectos de cristal, estabilizar la transferencia de masa y mejorar la calidad del cristal SIC. Incorpora un método de fijación de la bandeja de cristal sin semillas para la expansión térmica y el alivio del estrés. Sin embargo, la oferta limitada del mercado de grafito crisol y grafito poroso plantea desafíos para la calidad y el rendimiento de los cristales individuales SIC.
1. Tolerancia al entorno de alta temperatura: el producto puede resistir el entorno de 2500 grados centígrados, lo que demuestra una excelente resistencia al calor.
2. Control de porosidad en estrictos: el semiconductor Vetek mantiene un control de porosidad ajustado, asegurando un rendimiento constante.
3. La pureza alta: el material de grafito poroso utilizado logra un alto nivel de pureza a través de rigurosos procesos de purificación.
4. Capacidad de unión de partículas de superficie excelente: el semiconductor Vetek tiene una excelente capacidad de unión de partículas de superficie y resistencia a la adhesión en polvo.
5. Transporte de GAS, difusión y uniformidad: la estructura porosa del grafito facilita el transporte y difusión de gas eficientes, lo que resulta en una mejor uniformidad de gases y partículas.
6. Control de calidad y estabilidad: el semiconductor Vetek enfatiza la alta pureza, el bajo contenido de impureza y la estabilidad química para garantizar la calidad en el crecimiento de los cristales.
7. Control de temperatura y uniformidad: la conductividad térmica del grafito poroso permite una distribución de temperatura uniforme, reduciendo el estrés y los defectos durante el crecimiento.
8. Difusión de solutos y tasa de crecimiento: la estructura porosa promueve incluso la distribución del soluto, mejorando la tasa de crecimiento y la uniformidad de los cristales.
Veteksemicon porous graphite materials are your ideal procurement choice for precision thermal processing and vacuum applications. With high porosity, uniform pore distribution, and excellent chemical resistance, Veteksemicon's porous graphite is engineered to meet the strict demands of advanced semiconductor manufacturing, filtration systems, and fuel cell components. These materials enable efficient gas diffusion, fluid flow control, and thermal management, making them indispensable in processes like vacuum chucks, electrochemical applications, and battery electrodes.
Each porous graphite block or plate is manufactured using advanced graphite molding and sintering techniques, ensuring optimal performance in high-temperature and corrosive environments. Due to its open-cell microstructure and customizable pore size, our porous graphite offers superior permeability and thermal conductivity while maintaining dimensional stability under extreme conditions.
This category also covers related entities such as graphite vacuum plates, porous graphite discs, frequently used in semiconductor wafer handling and energy systems.
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