Anillo guía de grafito poroso

Ventajas principales del producto

1. Garantía de pureza ultraalta y bajo defecto

Adopta un proceso de purificación al vacío a alta temperatura de 3000 ℃ para eliminar profundamente las impurezas no metálicas como el oxígeno y el nitrógeno, aumentando la pureza del producto a ≥99,9995 %. Elimina los defectos cristalinos inducidos por impurezas (p. ej., microtúbulos, dislocaciones) de la fuente, lo que garantiza la consistencia y estabilidad de las propiedades eléctricas de los monocristales de SiC y sienta una base sólida para el crecimiento de cristales de alta calidad.

2. Estabilidad a temperaturas ultraaltas y regulación precisa del campo térmico

Puede soportar temperaturas extremadamente altas de 2200 ℃ en un entorno de argón o vacío, funcionando de forma continua y estable durante más de 1000 horas sin ablandarse ni deformarse. El producto tiene un bajo coeficiente de expansión térmica, lo que puede evitar eficazmente el agrietamiento del material causado por el estrés térmico. Admite el diseño de distribución de gradiente de porosidad (15-30 %) y optimiza el tamaño de los poros (10-200 μm) combinado con la tecnología de simulación CFD (dinámica de fluidos computacional), controlando la fluctuación del gradiente de temperatura dentro de ±3 ℃ y mejorando significativamente la uniformidad del campo térmico y la consistencia del crecimiento de los cristales.

3. Adaptación personalizada y satisfacción del escenario completo

• Adaptación de formas geométricas: puede procesar con precisión formas complejas, como barriles anulares y estructuras de escudo multicapa, de acuerdo con las estructuras de los hornos de los clientes para lograr una combinación e instalación perfectas.
• Personalización del proceso de superficie: proporciona servicios personalizados de tratamiento de superficies, como pulido de ultraprecisión y recubrimientos especiales, lo que mejora en gran medida la resistencia a la corrosión y la vida útil del producto.

4. Rendimiento verificado y eficiencia mejorada

• Cuando se utiliza como componente central del campo térmico en el proceso de cristalización de PVT SiC, se ha verificado en escenarios prácticos:
• La tasa de crecimiento del cristal aumenta entre un 15 % y un 20 % en comparación con los productos de grafito tradicionales, lo que acorta significativamente el ciclo de producción.
• El rendimiento de las obleas monocristalinas de SiC de 4 pulgadas supera el 90%, lo que reduce efectivamente los costos de producción.
• El ciclo de mantenimiento de los equipos se amplía de los 3 meses convencionales a 6 meses, reduciendo la frecuencia de las paradas de mantenimiento y mejorando la eficiencia de la producción.
  
  

Escenarios de aplicación

• Conjunto de horno de crecimiento PVT: sirve como componente central para la sublimación del material de SiC y el crecimiento de cristales, proporcionando una distribución del campo térmico estable y uniforme para garantizar el progreso fluido del proceso de cristalización.
• Componente de protección de campo térmico: la estructura porosa única puede amortiguar eficazmente el estrés térmico, reducir el desgaste del equipo y extender la vida útil general del equipo.
• Accesorio de soporte para cristales semilla: Posee una alta resistencia mecánica para soportar de manera estable los cristales semilla, asegurando la precisión del crecimiento direccional del cristal.
• Capa de difusión de gas: optimiza la eficiencia de transferencia de fase gaseosa, promueve la sublimación y deposición uniforme de materias primas y mejora aún más la calidad del monocristal y la tasa de crecimiento.

Parámetros técnicos

Aspectos destacados competitivos principales

• Rendimiento extremo a altas temperaturas: Mantiene la estabilidad estructural a 2200 ℃ sin ablandarse ni deformarse, lo que admite un funcionamiento continuo durante más de 1000 horas para cumplir con los requisitos extremos del proceso.
• Solución de campo térmico personalizada: se basa en la tecnología de simulación CFD para optimizar el diseño del gradiente de poros, satisfacer con precisión las necesidades de proceso de los clientes y mejorar la uniformidad del cristal y el rendimiento del producto.
• Servicio de respuesta rápida: proporciona servicios de prueba de coincidencia de parámetros de proceso y ofrece soluciones prototipo en 72 horas, lo que ayuda a los clientes a acelerar los procesos de producción e I+D.