Padera de voladizo sic de alta pureza

La paleta en voladizo SIC de alta pureza es un componente clave utilizado en el equipo de procesamiento de semiconductores. El producto está hecho de material de carburo de silicio (SIC) de alta pureza.  Los clientes pueden elegir libremente el material SIC sinterizado o el material SIC recristalizado. Con la ayuda de sus excelentes características de alta pureza, alta estabilidad térmica y resistencia a la corrosión, se utiliza ampliamente en procesos como transferencia de obleas, soporte y procesamiento de alta temperatura, lo que proporciona una garantía confiable para garantizar la precisión del proceso y la calidad del producto.

El remolino SIC en voladizo de alta pureza juega los siguientes roles específicos en el proceso de procesamiento de semiconductores:

Transferencia de obleas: La paleta en voladizo SIC de alta pureza generalmente se usa como dispositivo de transferencia de obleas en difusión o oxidación de alta temperatura. Su alta dureza lo hace resistente al desgaste y no es fácil de deformarse durante el uso a largo plazo, y puede garantizar que la oblea permanezca con precisión durante el proceso de transferencia. Combinado con su alta temperatura y resistencia a la corrosión, puede transferir de forma segura las obleas dentro y fuera del tubo del horno en entornos de alta temperatura sin causar ninguna contaminación o daño a las obleas.

Soporte de obleas: El material SIC tiene un bajo coeficiente de expansión térmica, lo que significa que su tamaño cambia menos cuando la temperatura cambia, lo que ayuda a mantener un control preciso en el proceso. En los procesos de deposición de vapor químico (CVD) o deposición de vapor físico (PVD), se utiliza la paleta en voladizo SIC para soportar y fijar la oblea para garantizar que la oblea permanezca estable y plana durante el proceso de deposición, mejorando así la uniformidad y la calidad de la película.

Aplicación de procesos de alta temperatura: SIC El voladizo de la paleta tiene una excelente estabilidad térmica y puede soportar temperaturas de hasta 1600 ° C. Por lo tanto, este producto se usa ampliamente en recocido de alta temperatura, oxidación, difusión y otros procesos.

Propiedades físicas básicas de la paleta de voladizo SIC de alta pureza:

Padera de voladizo sic de alta purezatiendas:

Descripción general de la cadena industrial de epitaxia de chip de semiconductores: