Paleta voladiza de SiC

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Características de la paleta Sic en voladizo Sic de Vetek Semiconductor:

Estabilidad a altas temperaturas: Capaz de mantener su forma y estructura a altas temperaturas, adecuado para procesos de procesamiento a altas temperaturas.

Resistencia a la corrosión: Excelente resistencia a la corrosión ante una variedad de productos químicos y gases.

Alta resistencia y rigidez: proporciona un soporte confiable para evitar deformaciones y daños.

Ventajas de la paleta Sic en voladizo Sic del semiconductor de Vetek:

Alta precisión: la alta precisión de procesamiento garantiza una operación estable en equipos automatizados.

Baja contaminación: el material SIC de alta pureza reduce el riesgo de contaminación, que es especialmente importante para los entornos de fabricación ultra limpia.

Altas propiedades mecánicas: capaz de soportar entornos de trabajo duros con altas temperaturas y altas presiones.

Aplicaciones específicas de sic voladizo de paleta y su principio de aplicación

Manejo de obleas de silicio en la fabricación de semiconductores:

La paleta SIC en voladizo se usa principalmente para manejar y soportar obleas de silicio durante la fabricación de semiconductores. Estos procesos generalmente incluyen limpieza, grabado, recubrimiento y tratamiento térmico. Principio de la aplicación:

Manipulación de obleas de silicio: la paleta voladiza de SiC está diseñada para sujetar y mover obleas de silicio de forma segura. Durante los procesos de tratamiento químico y de alta temperatura, la alta dureza y resistencia del material de SiC garantizan que la oblea de silicio no se dañe ni deforme.

Proceso de deposición química de vapor (CVD):

En el proceso de CVD, la paleta SIC en voladizo se usa para transportar obleas de silicio para que se puedan depositar películas delgadas en sus superficies. Principio de la aplicación:

En el proceso de CVD, la paleta SIC en voladizo se usa para fijar la oblea de silicio en la cámara de reacción, y el precursor gaseoso se descompone a alta temperatura y forma una película delgada en la superficie de la oblea de silicio. La resistencia a la corrosión química del material SiC asegura un funcionamiento estable a alta temperatura y entorno químico.

Parámetro del producto de la paleta SIC en voladizo

Tiendas de producción:

Descripción general de la cadena industrial de la epitaxia de chip de semiconductores: