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Paleta de voladizo de carburo de silicio
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Paleta de voladizo de carburo de silicio

La paleta en voladizo de carburo de silicio de Vetek Semiconductor es un componente importante en el proceso de fabricación de semiconductores, especialmente adecuado para hornos de difusión o hornos de LPCVD en procesos de alta temperatura como la difusión y la RTP. Nuestra paleta en voladizo de carburo de silicio está cuidadosamente diseñado y fabricado con una excelente resistencia a alta temperatura y resistencia mecánica, y puede transportar obleas de manera segura y confiable al tubo de proceso en condiciones de proceso duras para varios procesos de alta temperatura, como difusión y RTP. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China. Según los informes para preguntarnos.

Puede tener la seguridad de comprar remolcos de voladizo de carburo de silicio personalizado de Vetek Semiconducto. Esperamos cooperar con usted, si desea saber más, puede consultarnos ahora, ¡le responderemos a tiempo!

La paleta en voladizo de carburo de silicio del semiconductor de Vetek está hecha de carburo de silicio de alta pureza y tiene una excelente resistencia a la temperatura y resistencia mecánica. Es un componente clave indispensable en el proceso de fabricación de semiconductores, especialmente en hornos de difusión o LPCVD y procesos RTP. El diseño y la fabricación precisos de la paleta en voladizo de carburo de silicio asegura el posicionamiento y la transferencia seguros de obleas para cumplir con los requisitos de proceso de alta precisión.

La paleta voladiza de carburo de silicio de vetek semiconductor está hecha de carburo de silicio como material principal. El carburo de silicio tiene las características de alta resistencia y buena estabilidad térmica, por lo que puede soportar condiciones duras en el entorno de procesos de alta temperatura de los hornos semiconductores. Una de las razones para elegir el carburo de silicio es porque puede adaptarse al entorno de alta temperatura en los hornos de semiconductores.

El diseño de la paleta en voladizo de carburo de silicio le permite extenderse al tubo de proceso en el horno y fijarse firmemente en un extremo fuera del tubo. Este diseño asegura que la oblea que se procese permanece estable y es compatible durante el proceso y minimiza la interferencia con el entorno térmico en el horno.

Vetek Semiconductor se compromete a proporcionar productos SIC en voladizo SIC de alta calidad. Nuestros productos están cuidadosamente diseñados y fabricados para cumplir con los requisitos estrictos del proceso de fabricación de semiconductores. El excelente rendimiento y confiabilidad de la paleta de voladizo de carburo de silicio lo convierten en un componente clave indispensable en la industria de semiconductores. Vetek Semiconductor se compromete a proporcionar productos de calidad a precios competitivos, y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.


Parámetro del producto de la paleta de voladizo de carburo de silicio

Propiedades físicas del carburo de silicio recristalizado
Propiedad Valor típico
Temperatura de trabajo (° C) 1600 ° C (con oxígeno), 1700 ° C (entorno reductor)
Contenido sic > 99.96%
Contenido de SI gratis <0.1%
Densidad masiva 2.60-2.70 g/cm3
Porosidad aparente <16%
Resistencia a la compresión > 600 MPA
Fuerza de flexión de frío 80-90 MPa (20 ° C)
Fuerza de flexión caliente 90-100 MPa (1400 ° C)
Expansión térmica a 1500 ° C 4.70 10-6/° C
Conductividad térmica a 1200 ° C 23 w/m • k
Módulo elástico 240 GPA
Resistencia a choque térmico Extremadamente bueno


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Descripción general de la cadena industrial de la epitaxia de chip de semiconductores:

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