¿Breakthrough de la tecnología de carburo tantalum, contaminación epitaxial sic reducida en un 75%?

Recientemente, el Instituto de Investigación Alemán Fraunhofer IISB ha hecho un avance en la investigación y desarrollo detecnología de recubrimiento de carburo tantalumy desarrolló una solución de recubrimiento de pulverización que es más flexible y ecológica que la solución de deposición de CVD, y se ha comercializado.

Y el semiconductor vetek doméstico también ha realizado avances en este campo, consulte a continuación para más detalles.

Fraunhofer IISB:

Desarrollar una nueva tecnología de recubrimiento TAC

El 5 de marzo, según los medios de comunicación "Semiconductor compuesto", Fraunhofer IISB ha desarrollado un nuevotecnología de recubrimiento de carburo de tantalum (TAC)-Taccotta. La licencia de tecnología se ha transferido a Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG), y NKCG ha comenzado a proporcionar piezas de grafito recubiertas de TAC para sus clientes.

El método tradicional de producir recubrimientos TAC en la industria es la deposición de vapor químico (CVD), que enfrenta desventajas como los altos costos de fabricación y los largos tiempos de entrega. Además, el método CVD también es propenso al agrietamiento de TAC durante el calentamiento repetido y el enfriamiento de los componentes. Estas grietas exponen el grafito subyacente, que degrada severamente con el tiempo y necesita ser reemplazado.

La innovación de Taccotta es que utiliza un método de recubrimiento de pulverización a base de agua seguido de un tratamiento de temperatura para formar un recubrimiento TAC con alta estabilidad mecánica y espesor ajustable en elsustrato de grafito. El grosor del recubrimiento se puede ajustar de 20 micras a 200 micras para adaptarse a diferentes requisitos de aplicación.

La tecnología de proceso TAC desarrollada por Fraunhofer IISB puede ajustar las propiedades de recubrimiento requeridas, como el grosor, como se muestra a continuación en el rango de 35 μm a 110 μm.

Específicamente, el recubrimiento de spray Taccotta también tiene las siguientes características y ventajas clave:

● Más amigable con el medio ambiente: con el recubrimiento por pulverización a base de agua, este método es más ecológico y fácil de industrializar;

● Flexibilidad: la tecnología de taccotta puede adaptarse a componentes de diferentes tamaños y geometrías, lo que permite el recubrimiento parcial y la renovación de los componentes, lo que no es posible en ECV.

● Reducción de la contaminación del tántalo: los componentes de grafito con recubrimiento de taccotta se utilizan en la fabricación epitaxial de SIC, y la contaminación tántala se reduce en un 75% en comparación con la existenciaRecubrimientos CVD.

● Resistencia al desgaste: las pruebas de rascar muestran que aumentar el grosor de recubrimiento puede mejorar significativamente la resistencia al desgaste.

Prueba de rasguño

Se informa que la tecnología ha sido promovida para la comercialización por NKCG, una empresa conjunta que se centra en proporcionar materiales de grafito de alto rendimiento y productos relacionados. NKCG también participará en el desarrollo de la tecnología Taccotta durante mucho tiempo en el futuro. La compañía ha comenzado a proporcionar componentes de grafito basados ​​en la tecnología Taccotta a sus clientes.

El semiconductor de Vetek promueve la localización de TAC

A principios de 2023, Vetek Semiconductor lanzó una nueva generación deCrecimiento de cristal sicmaterial de campo térmico-carburo tantalum poroso.

Según los informes, Vetek Semiconductor ha lanzado un avance en el desarrollo decarburo tantalum porosocon gran porosidad a través de la investigación y el desarrollo de tecnología independiente. Su porosidad puede alcanzar hasta el 75%, logrando el liderazgo internacional.