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Anillo de recubrimiento CVD TAC
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Anillo de recubrimiento CVD TAC

En la industria de semiconductores, el anillo de recubrimiento CVD TAC es un componente muy ventajoso diseñado para cumplir con los requisitos exigentes de los procesos de crecimiento de cristal de carburo de silicio (SIC). El anillo de recubrimiento CVD TAC de Vetek Semiconductor proporciona una excelente resistencia a la alta temperatura y la inercia química, lo que lo convierte en una opción ideal para entornos caracterizados por temperaturas elevadas y condiciones corrosivas. Estamos comprometidos a crear una producción eficiente de accesorios de cristal único de carburo de silicio. Por favor, no dude en contactarnos para obtener más preguntas.

El anillo de recubrimiento de Veteksemicon CVD TAC es un componente crítico para un exitoso crecimiento de cristal único de carburo de silicio. Con su resistencia a alta temperatura, inercia química y rendimiento superior, garantiza la producción de cristales de alta calidad con resultados consistentes. Confíe en nuestras soluciones innovadoras para elevar los procesos de crecimiento de cristal SIC de método PVT y lograr resultados excepcionales.


SiC Crystal Growth Furnace

Durante el crecimiento de cristales individuales de carburo de silicio, el anillo de recubrimiento de carburo de tantalum CVD juega un papel crucial para garantizar resultados óptimos. Sus dimensiones precisas y su recubrimiento TAC de alta calidad permiten una distribución de temperatura uniforme, minimizando el estrés térmico y promoviendo la calidad del cristal. La conductividad térmica superior del recubrimiento TAC facilita la disipación de calor eficiente, contribuyendo a mejores tasas de crecimiento y mejoras características de cristal. Su construcción robusta y su excelente estabilidad térmica aseguran un rendimiento confiable y una vida útil prolongada, reduciendo la necesidad de reemplazos frecuentes y minimizando el tiempo de inactividad de producción.


La inercia química del anillo de recubrimiento CVD TAC es esencial para prevenir las reacciones y la contaminación no deseadas durante el proceso de crecimiento del cristal SIC. Proporciona una barrera protectora, manteniendo la integridad del cristal y minimizando las impurezas. Esto contribuye a la producción de cristales individuales de alta calidad sin defectos con excelentes propiedades eléctricas y ópticas.


Además de su rendimiento excepcional, el anillo de recubrimiento CVD TAC está diseñado para una fácil instalación y mantenimiento. Su compatibilidad con el equipo existente y la integración perfecta aseguran la operación simplificada y la mayor productividad.


Cuente con Veteksemicon y nuestro anillo de recubrimiento CVD TAC para un rendimiento confiable y eficiente, colocándolo a la vanguardia de la tecnología de crecimiento de cristal SIC.


Método PVT Crecimiento de cristal sic:



Especificación del CVD Revestimiento de carburo tantalum Anillo:

Propiedades físicas del recubrimiento TAC
Densidad 14.3 (g/cm³)
Emisividad específica 0.3
Coeficiente de expansión térmica 6.3*10-6/K
Dureza (HK) 2000 HK
Resistencia 1 × 10-5Ohm*cm
Estabilidad térmica <2500 ℃
Cambios de tamaño de grafito -10 ~ -20um
Espesor de revestimiento ≥20um valor típico (35um ± 10um)

Descripción general del semiconductor Cadena de la industria de la epitaxia de chips:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy


Es semiconductorAnillo de recubrimiento CVD TACTienda de producción

SiC Graphite substrateGraphite Heating Unit testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment


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