Portador de oblea de grafito recubierto de TaC

Portador de oblea de grafito recubierto de TaC

Vetek Semiconductor ha diseñado cuidadosamente el transportista de obleas de grafito recubierto de TAC para los clientes. Se compone de grafito de alta pureza y recubrimiento TAC, que es adecuado para varios procesos de obleas epitaxiales de obleas. Hemos sido especializados en recubrimiento SIC y TAC durante muchos años. En comparación con el recubrimiento SIC, nuestro portador de obleas de grafito recubierto de TAC tiene una mayor resistencia a la temperatura y resistente al desgaste. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Puede estar seguro de comprar un soporte de oblea de grafito recubierto de TaC personalizado de VeTek Semiconductor. Esperamos cooperar con usted, si desea saber más, puede consultarnos ahora, ¡le responderemos a tiempo!

El portador de obleas de grafito recubierto de semiconductores Vetek TAC interactúa directamente con obleas en el reactor de epitaxia, mejorando la eficiencia y el rendimiento. Con la opción de carburo de carburo de silicio o cubo de carburo tantalum, el transportista de obleas de grafito recubierto de semiconductores Vetek Tac ofrece una vida útil prolongada, hasta 2-3 veces más con carburo tantálico. Compatible con varios modelos de máquinas, incluidos hornos de epitaxia LPE SIC, JSG, hornos epitaxiales NASO.

El portador de grafito recubierto de TAC vetek semiconductores garantiza la estequiometría de reacción precisa, previene la migración de impurezas y mantiene la estabilidad de la temperatura más allá de 2000 ° C. Exhibe una notable resistencia a H2, NH3, Sih4 y SI, salvaguardando contra entornos químicos duros. Participa los choques térmicos, permite ciclos operativos rápidos sin delaminación de recubrimiento.

El recubrimiento VeTek Semiconductor TaC garantiza una pureza ultra alta, elimina impurezas y garantiza una cobertura conforme que cumple con estrictas tolerancias dimensionales. Con las capacidades avanzadas de procesamiento de grafito de VeTek Semiconductor, estamos equipados para satisfacer sus necesidades de personalización. Ya sea que necesite servicios de recubrimiento o soluciones integrales, nuestro equipo de ingenieros expertos está listo para diseñar la solución perfecta para sus aplicaciones específicas. Confíe en nosotros para ofrecerle productos de alta calidad adaptados a sus requisitos y expectativas.


Método PVT Crecimiento de cristal sic:

PVT method SiC Crystal Growth


Parámetro del producto del portador de obleas de grafito recubierto de TaC

Propiedades físicas del recubrimiento TAC
Densidad 14,3 (g/cm³)
Emisividad específica 0.3
Coeficiente de expansión térmica 6.3 10-6/K
Dureza (HK) 2000 Hong Kong
Resistencia 1 × 10-5Ohm*cm
Estabilidad térmica <2500℃
Cambios de tamaño de grafito -10 ~ -20um
Espesor del revestimiento Valor típico ≥20um (35um±10um)


Taller de producción de semiconductores VeTek:

VeTek Semiconductor Production Shop


Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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