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Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, ciudad de Jinhua, provincia de Zhejiang, China
VeTek Semiconductor es su socio innovador en el campo del procesamiento de semiconductores. Con nuestra amplia cartera de combinaciones de materiales cerámicos de carburo de silicio de grado semiconductor, capacidades de fabricación de componentes y servicios de ingeniería de aplicaciones, podemos ayudarle a superar desafíos importantes. Las cerámicas de carburo de silicio técnicas de ingeniería se aplican ampliamente en la industria de semiconductores debido a su excepcional rendimiento material. Las cerámicas de carburo de silicio ultrapuras de VeTek Semiconductor se utilizan con frecuencia durante todo el ciclo de fabricación y procesamiento de semiconductores.
VeTek Semiconductor proporciona componentes cerámicos diseñados específicamente para los requisitos de difusión por lotes y LPCVD, que incluyen:
• Deflectores y soportes
• Inyectores
• Revestimientos y tubos de proceso
• Paletas voladizas de carburo de silicio
• Botes de oblea y pedestales
Paleta voladiza de SiC
Tubos de proceso de SiC
Tubo de proceso de carburo de silicio
Barco de oblea vertical de SiC
Barco de oblea horizontal de SiC
Barco oblea cuadrado horizontal SiC
Barco de oblea SiC LPCVD
Barco de placa horizontal de SiC
Anillo de sello de cerámica SiC
Minimice la contaminación y el mantenimiento no programado con componentes de alta pureza diseñados para los rigores del procesamiento de grabado con plasma, que incluyen:
Anillos de enfoque
Boquillas
Escudos
Cabezales de ducha
Ventanas / Tapas
Otros componentes personalizados
VeTek Semiconductor proporciona componentes de materiales avanzados diseñados para aplicaciones de procesamiento térmico de alta temperatura en la industria de los semiconductores. Estas aplicaciones abarcan RTP, procesos Epi, difusión, oxidación y recocido. Nuestras cerámicas técnicas están diseñadas para resistir choques térmicos, brindando un rendimiento confiable y consistente. Con los componentes de VeTek Semiconductor, los fabricantes de semiconductores pueden lograr un procesamiento térmico eficiente y de alta calidad, contribuyendo al éxito general de la producción de semiconductores.
• Difusores
• Aisladores
• Susceptores
• Otros componentes térmicos personalizados
Propiedades físicas del carburo de silicio recristalizado | |
Propiedad | Valor típico |
Temperatura de trabajo (°C) | 1600°C (con oxígeno), 1700°C (ambiente reductor) |
Contenido de SiC/SiC | > 99,96% |
Contenido de Si/Si libre | <0,1% |
densidad aparente | 2,60-2,70 g/cm3 |
Porosidad aparente | < 16% |
Fuerza de compresión | > 600MPa |
Resistencia a la flexión en frío | 80-90 MPa (20°C) |
Resistencia a la flexión en caliente | 90-100MPa (1400°C) |
Expansión térmica @1500°C | 4,70 10-6/°C |
Conductividad térmica @1200°C | 23 W/m·K |
módulo elástico | 240 GPa |
Resistencia al choque térmico | Extremadamente bueno |
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