Portador de oblea horizontal de SiC

Semiconductores VeTekPortador de oblea horizontal de SiC/El barco tiene un punto de fusión extremadamente alto (alrededor de 2700°C), lo que permitePortador de oblea horizontal de SiC/Barco para trabajar de forma estable en ambientes de alta temperatura sin deformación ni degradación. Esta característica es particularmente importante en el proceso de fabricación de semiconductores, especialmente en procesos como el recocido a alta temperatura o la deposición química de vapor (CVD).

ElPortador de oblea horizontal de SiC/Boat desempeña específicamente las siguientes funciones en el proceso de transporte de portadores de obleas:

Transporte y soporte de oblea de silicio.: El barco de oblea horizontal de SiC se utiliza principalmente para transportar y soportar obleas de silicio durante la fabricación de semiconductores. Puede organizar firmemente varias obleas de silicio juntas para garantizar que permanezcan en buena posición y estabilidad durante todo el proceso de procesamiento.

Calefacción y enfriamiento uniforme: Debido a la alta conductividad térmica de SIC, el barco de obleas puede distribuir efectivamente el calor de manera uniforme a todas las obleas de silicio. Esto ayuda a lograr un calentamiento o enfriamiento uniforme de las obleas de silicio durante el procesamiento de alta temperatura, asegurando la consistencia y la confiabilidad del proceso de procesamiento.

Prevenir la contaminación: La estabilidad química de SIC le permite funcionar bien en ambientes de gases de alta temperatura y corrosivo, reduciendo así la exposición de las obleas de silicio a posibles contaminantes o reactivos, asegurando la pureza y la calidad de las obleas de silicio.

De hecho, el barco oblea horizontal de SiC puede desempeñar el papel anterior debido a las características únicas de su producto:

Excelente estabilidad química: El material SiC tiene una excelente resistencia a la corrosión ante una variedad de medios químicos. En el proceso de procesamiento de gases o líquidos corrosivos, SiC Wafer Boat puede resistir eficazmente la corrosión química y proteger las obleas de silicio de la contaminación o daños.

Alta conductividad térmica: La alta conductividad térmica de SIC ayuda a distribuir uniformemente el calor en el proceso portador y reducir la acumulación de calor. Esto puede mejorar la precisión del control de la temperatura durante el procesamiento de precisión y garantizar un calentamiento o enfriamiento uniforme de las obleas de silicio.

Bajo coeficiente de expansión térmica.: El bajo coeficiente de expansión térmica del material SIC significa que el cambio dimensional de la bote de oblea de SiC es muy pequeño durante los cambios de temperatura. Esto ayuda a mantener la estabilidad dimensional durante el procesamiento de alta temperatura y previene la deformación o el desplazamiento posicional de las obleas de silicio causadas por la expansión térmica.

Propiedades físicas básicas del portador horizontal de obleas de sic:

Taller de producción de semiconductores VeTek:

Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores: