Productos
Paleta voladiza de carburo de silicio para procesamiento de obleas
  • Paleta voladiza de carburo de silicio para procesamiento de obleasPaleta voladiza de carburo de silicio para procesamiento de obleas

Paleta voladiza de carburo de silicio para procesamiento de obleas

La paleta voladiza de carburo de silicio de Veteksemicon está diseñada para el procesamiento avanzado de obleas en la fabricación de semiconductores. Hecho de SiC de alta pureza, ofrece una excelente estabilidad térmica, resistencia mecánica superior y excelente resistencia a altas temperaturas y ambientes corrosivos. Estas características garantizan un manejo preciso de las obleas, una vida útil prolongada y un rendimiento confiable en procesos como MOCVD, epitaxia y difusión. Bienvenido a consultar.

Información general del producto

Lugar de origen:
Porcelana
Nombre de marca:
mi rival
Número de modelo:
Paletas de SiC-01
Proceso de dar un título:
ISO9001


Términos comerciales del producto

Cantidad mínima de pedido:
Sujeto a negociación
Precio:
Contacto para cotización personalizada
Detalles de empaquetado:
Paquete de exportación estándar
El tiempo de entrega:
Tiempo de entrega: 30-45 días después de la confirmación del pedido
Condiciones de pago:
T/T
Capacidad de suministro:
500 unidades/mes


Solicitud: Las paletas de SiC de Veteksemicon son componentes clave en la fabricación avanzada de semiconductores, diseñadas para procesos centrales como la epitaxia de dispositivos de potencia de SiC, el recocido a alta temperatura y la oxidación de compuerta para chips a base de silicio.


Servicios que se pueden prestar: Análisis de escenarios de aplicación del cliente, combinación de materiales, resolución de problemas técnicos.


Perfil de la empresa:mi rival cuenta con 2 laboratorios, un equipo de expertos con 20 años de experiencia en materiales, con capacidades de I+D y producción, pruebas y verificación.


Las paletas de SiC de Veteksemicon son componentes centrales que soportan cargas diseñados específicamente para procesos de alta temperatura en la fabricación de semiconductores y chips de carburo de silicio. Fabricadas con precisión a partir de carburo de silicio de alta pureza y densidad, nuestras paletas demuestran una estabilidad térmica excepcional y una contaminación metálica extremadamente baja en entornos hostiles que superan los 1200 °C. Garantizan eficazmente un transporte de obleas limpio y sin problemas durante procesos críticos como la difusión y la oxidación, y sirven como una base confiable para mejorar el rendimiento del proceso y el rendimiento del equipo.


Parámetros técnicos

Proyecto
Parámetro
Materiales principales
SiC/CVD SiC unido por reacción de alta pureza
Temperatura máxima de funcionamiento
1600°C (en atmósfera inerte u oxidante)
Contenido de impurezas metálicas
< 50 ppm (grados de pureza más bajos disponibles a pedido)
densidad
≥ 3,02 g/cm³
Fuerza de flexión
≥ 350 MPa
Coeficiente de expansión térmica.
4,5×10-6/K (20-1000°C)
Tratamiento superficial
Rectificado de alta precisión, el acabado superficial puede alcanzar Ra 0,4 μm o menos


Ventajas principales de las palas de SiC Veteksemi


 ● Máxima pureza, protegiendo el rendimiento de las virutas

Utilizamos procesos avanzados para producir materias primas de carburo de silicio, garantizando impurezas metálicas mínimas. Las paletas de SiC de Veteksemi suprimen eficazmente la precipitación de impurezas en entornos de alta temperatura durante períodos prolongados, evitando la contaminación de obleas sensibles y garantizando una producción de alto rendimiento desde la fuente.


● Excelente resistencia al calor para enfrentar desafíos extremos

El propio carburo de silicio tiene propiedades de resistencia a altas temperaturas que superan a la mayoría de los materiales cerámicos. Nuestras paletas pueden soportar fácilmente temperaturas de proceso de hasta 1600 °C, tienen un coeficiente de expansión térmica extremadamente bajo y exhiben una resistencia excepcional al choque térmico durante ciclos rápidos y repetidos de calentamiento y enfriamiento, lo que minimiza el riesgo de deformación y agrietamiento y extiende la vida útil.


● Extraordinaria resistencia mecánica para garantizar una transmisión estable

Con una rigidez y dureza extremadamente altas, mantiene una excelente estabilidad morfológica incluso cuando está completamente cargado con obleas. Esto garantiza una alineación precisa de las obleas durante la transferencia automatizada, lo que les permite entrar y salir suavemente del horno, reduciendo el riesgo de rotura debido a vibración o desviación.


● Excelente resistencia a la corrosión, vida útil prolongada

Las paletas de SiC de VetekSemicon exhiben una fuerte inercia química en presencia de atmósferas corrosivas como oxígeno e hidrógeno que se encuentran comúnmente en procesos de oxidación y difusión, con tasas de erosión superficial extremadamente bajas. Esto garantiza dimensiones y rendimiento estables durante el uso a largo plazo, lo que reduce significativamente el costo general de propiedad.


Principales campos de aplicación

Dirección de aplicación
Escenario típico
Fabricación de dispositivos de potencia de carburo de silicio.
Epitaxia de SiC, implantación y recocido de iones a alta temperatura.
Semiconductores de tercera generación
Pretratamiento MOCVD y recocido de GaN-on-Si y otros materiales.
Dispositivos discretos
Proceso de difusión a alta temperatura para IGBT, MOSFET, etc.

Aval de verificación de cadena ecológica

La verificación de la cadena ecológica de las paletas de SiC de Veteksemicon abarca desde las materias primas hasta la producción, ha pasado la certificación de estándares internacionales y tiene una serie de tecnologías patentadas para garantizar su confiabilidad y sostenibilidad en los campos de semiconductores y nuevas energías.


Para obtener especificaciones técnicas detalladas, documentos técnicos o arreglos de prueba de muestra, comuníquese con nuestro equipo de soporte técnico para explorar cómo Veteksemicon puede mejorar la eficiencia de su proceso.


Veteksemicon-products-warehouse

Etiquetas calientes: Paleta voladiza de carburo de silicio para procesamiento de obleas
Enviar Consulta
Datos de contacto
  • DIRECCIÓN

    Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, ciudad de Jinhua, provincia de Zhejiang, China

  • Teléfono

    +86-15988690905

  • Correo electrónico

    anny@veteksemi.com

Si tiene consultas sobre recubrimiento de carburo de silicio, recubrimiento de carburo de tantalio, grafito especial o lista de precios, déjenos su correo electrónico y nos comunicaremos con usted dentro de las 24 horas.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept