¿Cuánto sabes sobre CVD SIC? - Semiconductor Vetek

CVDsic(Deposición de vapor químico El carburo de silicio) es un material de carburo de silicio de alta pureza fabricado por deposición de vapor químico. Se utiliza principalmente para varios componentes y recubrimientos en equipos de procesamiento de semiconductores. CVDMaterial sicTiene excelente estabilidad térmica, alta dureza, bajo coeficiente de expansión térmica y excelente resistencia a la corrosión química, lo que lo convierte en un material ideal para su uso en condiciones de proceso extrema.

El material SIC CVD se usa ampliamente en componentes que involucran alta temperatura, ambiente altamente corrosivo y alto estrés mecánico en el proceso de fabricación de semiconductores.

CVDsicComponentesprincipalmente incluir los siguientes productos

● Recubrimiento sic cvd

Se utiliza como una capa protectora para el equipo de procesamiento de semiconductores para evitar que el sustrato sea dañado por alta temperatura, corrosión química y desgaste mecánico.

● Bote de obleas sic

Se utiliza para transportar y transportar obleas en procesos de alta temperatura (como la difusión y el crecimiento epitaxial) para garantizar la estabilidad de las obleas y la uniformidad de los procesos.

● Tubo de proceso sic

Los tubos de proceso SIC se utilizan principalmente en hornos de difusión y hornos de oxidación para proporcionar un entorno de reacción controlado para las obleas de silicio, asegurando la deposición precisa del material y la distribución de dopaje uniforme.

● Sic en voladizo de paleta

La paleta SIC en voladizo se usa principalmente para transportar o soportar obleas de silicio en hornos de difusión y hornos de oxidación, desempeñando un papel de rodamiento. Especialmente en procesos de alta temperatura como difusión, oxidación, recocido, etc., asegura la estabilidad y el tratamiento uniforme de las obleas de silicio en entornos extremos.

● Cabezal de ducha sic cvd

Se utiliza como componente de distribución de gas en el equipo de grabado en plasma, con excelente resistencia a la corrosión y estabilidad térmica para garantizar una distribución uniforme de gas y un efecto de grabado.

● Techo recubierto de sic

Los componentes en la cámara de reacción del equipo, utilizados para proteger el equipo de daños por alta temperatura y gases corrosivos, y extender la vida útil del equipo.

● Susceptores de epitaxia de silicio

Portadores de obleas utilizados en procesos de crecimiento epitaxial de silicio para garantizar la calidad uniforme de calefacción y deposición de las obleas.

El carburo de silicio depositado por vapor químico (CVD SIC) tiene una amplia gama de aplicaciones en el procesamiento de semiconductores, utilizados principalmente para fabricar dispositivos y componentes que son resistentes a altas temperaturas, corrosión y alta dureza. 

CVDsicEl papel central se refleja en los siguientes aspectos

✔ recubrimientos protectores en entornos de alta temperatura

Función: CVD SIC a menudo se usa para recubrimientos superficiales de componentes clave en equipos de semiconductores (como creadores, revestimientos de cámara de reacción, etc.). Estos componentes deben funcionar en entornos de alta temperatura, y los recubrimientos SIC CVD pueden proporcionar una excelente estabilidad térmica para proteger el sustrato de daños a alta temperatura.

Ventajas: El alto punto de fusión y la excelente conductividad térmica de CVD SIC aseguran que los componentes puedan funcionar de manera estable durante mucho tiempo en condiciones de alta temperatura, extendiendo la vida útil del equipo.

✔ Aplicaciones anticorrosiones

Función: En el proceso de fabricación de semiconductores, el recubrimiento CVD SiC puede resistir efectivamente la erosión de gases y productos químicos corrosivos y proteger la integridad de los equipos y dispositivos. Esto es especialmente importante para manejar gases altamente corrosivos como fluoruros y cloruros.

Ventajas: Al depositar el recubrimiento CVD SIC en la superficie del componente, los costos de daño y mantenimiento del equipo causados ​​por la corrosión pueden reducirse considerablemente, y la eficiencia de producción puede mejorarse.

✔ Aplicaciones resistentes al desgaste de alta resistencia y desgaste

Función: El material CVD SIC es conocido por su alta dureza y alta resistencia mecánica. Se usa ampliamente en componentes semiconductores que requieren resistencia al desgaste y alta precisión, como sellos mecánicos, componentes de carga, etc. Estos componentes están sujetos a un fuerte estrés mecánico y fricción durante la operación. CVD SIC puede resistir efectivamente estas tensiones y garantizar la larga vida útil y el rendimiento estable del dispositivo.

Ventajas: Los componentes hechos de CVD SIC no solo pueden soportar el estrés mecánico en entornos extremos, sino también mantener su estabilidad dimensional y su acabado superficial después del uso a largo plazo.

Al mismo tiempo, CVD SIC juega un papel vital enCrecimiento epitaxial liderado, semiconductores de poder y otros campos. En el proceso de fabricación de semiconductores, los sustratos SIC CVD generalmente se usan comoSusceptores de EPI. Su excelente conductividad térmica y estabilidad química hacen que las capas epitaxiales cultivadas tengan una mayor calidad y consistencia. Además, CVD SIC también se usa ampliamente enPortadores de grabado de PSS, Transportistas de obleas RTP, Portadores de grabado de ICP, etc., proporcionando soporte estable y confiable durante el grabado de semiconductores para garantizar el rendimiento del dispositivo.

Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd es un proveedor líder de materiales de recubrimiento avanzados para la industria de semiconductores. Nuestra empresa se centra en desarrollar soluciones de borde para la industria.

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Vetek Semiconductor se enfoca en desarrollar tecnología de punta y soluciones de desarrollo de productos para la industria de semiconductores.Esperamos sinceramente convertirnos en su socio a largo plazo en China.