Fieltro suave de fibra de carbono a base de PAN

1. Factores básicos de rendimiento

• Alta Pureza:Los grados de alta pureza con contenido de cenizas se mantienen por debajo de 20 ppm para evitar la contaminación durante el crecimiento de semiconductores sensibles.
• Eficiencia térmica:La baja conductividad térmica de 0,1-0,13 W/(m*k) a 25 °C mantiene gradientes de temperatura estables y reduce la pérdida de energía.
• Resistencia al calor:Estabilidad confiable incluso en ambientes superiores a 2200°C.
• Integridad estructural:Nuestro proceso de formación por chorro de aire mantiene las fibras uniformes. Esto evita los puntos críticos y la fatiga del material que a menudo interrumpen los largos ciclos de crecimiento.  

3. Aplicaciones

Producción de semiconductores:Esta es una capa de aislamiento clave para configuraciones de hornos de crecimiento de cristales de silicio monocristalino y SiC.

Comunicaciones por fibra óptica:Ideal para uso en hornos de sinterización, torres de trefilado y producción de varillas de alta temperatura.

Investigación avanzada:Confiado en hornos de crecimiento de zafiro y sistemas especializados de purificación de alta temperatura.

4. ¿Por qué elegir VETEK?

Rendimiento más rápido:Al utilizar materiales con bajo calor específico, hemos hecho que el ciclo térmico sea mucho más rápido, lo que aumenta directamente su rendimiento diario.

Blindaje confiable:Nuestro enfoque de producción está en un estricto control de la densidad de la fibra; Eliminamos los puntos débiles para que obtenga un blindaje confiable en toda la cámara.

Estándares HPSI:Para los procesos HPSI y RF, nuestros estándares de alta pureza están diseñados específicamente para manejar esos requisitos sensibles y de alta resistividad.
Instalación sencilla:Dado que el material es naturalmente flexible, se puede cortar con precisión para adaptarse a geometrías complejas, lo que realmente ayuda a simplificar todo el proceso de instalación.