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Los barcos de obleas SIC Veteksemicon se utilizan ampliamente en procesos críticos de alta temperatura en la fabricación de semiconductores, que sirven como portadores confiables para los procesos de oxidación, difusión y recocido para circuitos integrados basados ​​en silicio. También se destacan en el sector semiconductor de tercera generación, perfectamente adecuado para procesos exigentes como el crecimiento epitaxial (EPI) y la deposición de vapor químico metal-orgánico (MOCVD) para dispositivos de energía SIC y GaN. También admiten la fabricación de alta temperatura de células solares de alta eficiencia en la industria fotovoltaica. Esperamos su consulta adicional.

El cabezal de ducha de grafito recubierto de CVD de Veteksemicon es un componente de alto rendimiento diseñado específicamente para procesos de deposición de vapor químico semiconductor (CVD). Fabricado a partir de grafito de alta pureza y protegido con un recubrimiento de carburo de silicio (SIC) de depósito de vapor químico (CVD), esta cabeza de ducha ofrece una excepcional durabilidad, estabilidad térmica y resistencia a los gases de proceso corrosivos. Esperamos su consulta adicional.

El cabezal de ducha de cuarzo, también conocido como placa de distribución de gas de cuarzo, es un componente crítico utilizado en procesos de deposición de película delgada semiconductora como CVD (deposición de vapor químico), PecVD (ECV con plasma) y ALD (deposición de la capa atómica). Hecho de cuarzo fusionado de alta pureza, este componente garantiza una contaminación ultracleada y una excelente estabilidad térmica, lo que permite el suministro preciso de gas y el crecimiento de la película uniforme en la superficie de la oblea. Esperamos su consulta adicional.

Nuestros anillos de guía de grafito recubiertos de TAC son componentes de núcleo de precisión para la fabricación de obleas de semiconductores. Cuentan con un sustrato de grafito de alta pureza recubierto con un recubrimiento de carburo tantalum (TAC) resistente al desgaste y químicamente inerte. Diseñados para procesos exigentes como la deposición epitaxial y el grabado de plasma, garantizan una alineación y estabilidad de obleas precisas, controlan efectivamente la contaminación y extienden significativamente la vida útil de los componentes. Veteksemicon ofrece servicios de personalización para que coincidan perfectamente con sus equipos y requisitos de proceso.

La pantalla de cuarzo de semiconductores de Veteksemicon es un componente vital en los sistemas de deposición de vapor químico de metal-orgánico (MOCVD), desempeñando un papel crucial en la optimización de los procesos de crecimiento de películas delgadas. Esta página de detalles del producto destaca las pantallas de cuarzo de alta pureza de Veteksemicon, diseñadas para mejorar la eficiencia de uniformidad, pureza y mantenimiento de los equipos MOCVD.

El crisol de cuarzo de alta pureza es un componente central esencial en procesos avanzados de fabricación de semiconductores, especialmente para aplicaciones que requieren estabilidad térmica extremadamente alta, pureza química y precisión dimensional. Veteksemicon ofrece cruzados de cuarzo de alta pureza superiores diseñados para satisfacer las demandas extremas de los procesos de semiconductores.