Subser de recubrimiento TAC

Susceptor recubierto de Tac y semiconductor de vetek yTAC recubiertoanilloTrabajan juntos en el reactor de crecimiento epitaxial de carburo de silicio LPE:

● Resistencia a alta temperatura: ElRecubrimiento TACEl susceptor tiene una excelente resistencia a alta temperatura, capaz de soportar las temperaturas extremas de hasta 1500 ° C en elReactor LPE. Esto garantiza que el equipo y los componentes no se deforman ni se dañen durante la operación a largo plazo.

● Estabilidad química: El susceptor de recubrimiento TAC funciona excepcionalmente bien en el entorno de crecimiento corrosivo de carburo de silicio, protegiendo efectivamente los componentes del reactor del ataque químico corrosivo, extendiendo así su vida útil.

● Estabilidad térmica: El susceptor de recubrimiento TAC tiene una buena estabilidad térmica, manteniendo la morfología de la superficie y la rugosidad para garantizar la uniformidad del campo de temperatura en el reactor, lo cual es beneficioso para el crecimiento de alta calidad de las capas epitaxiales de carburo de silicio.

● Anti-contaminación: La superficie recubierta de TAC lisa y el rendimiento superior de TPD (desorción programada de temperatura) pueden minimizar la acumulación y adsorción de partículas e impurezas dentro del reactor, evitando la contaminación de las capas epitaxiales.

En resumen, el susceptor y el anillo recubierto de TAC juegan un papel protector crítico en el reactor de crecimiento epitaxial de carburo de silicio LPE, asegurando la operación estable a largo plazo del equipo y el crecimiento de alta calidad de las capas epitaxiales.