Part de media luna de 8 pulgadas para reactor LPE

Como fabricante profesional, VeTek Semiconductor desea ofrecerle una pieza de media luna de 8 pulgadas de alta calidad para el reactor LPE.

La pieza de media luna de 8 pulgadas de VeTek Semiconductor para reactor LPE es un componente esencial utilizado en los procesos de fabricación de semiconductores, particularmente en equipos epitaxiales de SiC. VeTek Semiconductor emplea una tecnología patentada para producir una pieza de media luna de 8 pulgadas para el reactor LPE, lo que garantiza que posean una pureza excepcional, un recubrimiento uniforme y una longevidad excepcional. Además, estas piezas exhiben notables propiedades de resistencia química y estabilidad térmica.

El cuerpo principal de la parte de media luna de 8 pulgadas para el reactor LPE está hecho de grafito de alta pureza, que proporciona una excelente conductividad térmica y estabilidad mecánica. El grafito de alta pureza se elige por su bajo contenido de impureza, lo que garantiza una contaminación mínima durante el proceso de crecimiento epitaxial. Su robustez le permite resistir las condiciones exigentes dentro del reactor LPE.

Vetek Semiconductor Sic recubierto de grafito Las piezas de media luna se fabrican con la máxima precisión y atención al detalle. La alta pureza de los materiales utilizados garantiza un rendimiento y confiabilidad superiores en la fabricación de semiconductores. El recubrimiento uniforme en estas piezas garantiza una operación consistente y eficiente a lo largo de su vida útil.

Una de las principales ventajas de nuestras piezas de media luna de grafito recubiertas de SiC es su excelente resistencia química. Pueden resistir la naturaleza corrosiva del entorno de fabricación de semiconductores, lo que garantiza una durabilidad duradera y minimiza la necesidad de reemplazos frecuentes. Además, su excepcional estabilidad térmica les permite mantener su integridad estructural y funcionalidad en condiciones de alta temperatura.

Nuestras piezas de media luna de grafito recubiertas de SiC se han diseñado meticulosamente para cumplir con los estrictos requisitos de los equipos epitaxiales de SiC. Con su rendimiento confiable, estas piezas contribuyen al éxito de los procesos de crecimiento epitaxial, permitiendo la deposición de películas de SiC de alta calidad.

ESTRUCTURA CRISTALINA DE LA PELÍCULA DE RECUBRIMIENTO CVD SIC: