Recubrimiento de carburo de tantalio

Con su alta resistencia a la temperatura, la inercia química y el excelente rendimiento, los fucks recubiertos con TAC de Vetek Semiconductor están diseñados para hornos de semiconductores. Creemos que nuestros productos pueden brindarle tecnología avanzada y soluciones de productos de calidad.

El tubo de recubrimiento TaC de VeTek Semiconductor es un componente clave para el crecimiento exitoso de monocristales de carburo de silicio. Con su resistencia a altas temperaturas, inercia química y excelente rendimiento, garantiza la producción de cristales de alta calidad con resultados consistentes. Confíe en nuestras soluciones innovadoras para mejorar el proceso de crecimiento de cristales de SiC del método PVT y lograr excelentes resultados. Bienvenido a consultarnos.

El recubrimiento TAC se utiliza actualmente principalmente en procesos como el crecimiento de un solo cristal de carburo de silicio (método PVT), disco epitaxial (incluida la epitaxia de carburo de silicio, la epitaxia LED), etc. combinada con la buena estabilidad a largo plazo de la placa de recubrimiento de TAC, la placa de recubrimiento de Veteksemicon se ha convertido en el benchmark para la placa de recubrimiento de TAC. Esperamos que se convierta en nuestro socio a largo plazo.

GaN en el susceptor SIC EPI juega un papel vital en el procesamiento de semiconductores a través de su excelente conductividad térmica, capacidad de procesamiento de alta temperatura y estabilidad química, y garantiza la alta eficiencia y la calidad del material del proceso de crecimiento epitaxial de GaN. Vetek Semiconductor es un fabricante profesional de GaN de China en SIC EPI susceptor, esperamos sinceramente su consulta adicional.

El portador de recubrimiento CVD TAC está diseñado principalmente para el proceso epitaxial de fabricación de semiconductores. El punto de fusión Ultra High CVD TAC CVD TAC, excelente resistencia a la corrosión y estabilidad térmica sobresaliente determinan la indispensabilidad de este producto en el proceso epitaxial semiconductor. Dé la bienvenida a su investigación adicional.

El susceptor de grafito con recubrimiento con el semiconductor de Vetek utiliza el método de depósito de vapor químico (CVD) para preparar el recubrimiento de carburo tantálico en la superficie de las piezas de grafito. Este proceso es el más maduro y tiene las mejores propiedades de recubrimiento. El susceptor de grafito recubierto de TAC puede extender la vida útil de los componentes de grafito, inhibir la migración de impurezas de grafito y garantizar la calidad de la epitaxia. Esperamos su consulta.