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Recubrimiento CVD-TAC
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Recubrimiento CVD-TAC

Vetek Semiconductor es el fabricante de productos de recubrimiento CVD TAC líder en China. Durante muchos años, nos hemos centrado en varios productos de recubrimiento TAC CVD como la cubierta de recubrimiento CVD TAC, el anillo de recubrimiento CVD TAC. Vetek Semiconductor admite servicios de productos personalizados y precios satisfactorios de productos, y espera su consulta adicional.

El recubrimiento CVD TAC (depósito de vapor químico recubrimiento de carburo tantalum) es un producto de recubrimiento compuesto principalmente de carburo tantalum (TAC). El recubrimiento TAC tiene una dureza extremadamente alta, resistencia al desgaste y una alta resistencia a la temperatura, por lo que es una opción ideal para proteger los componentes clave del equipo y mejorar la confiabilidad del proceso. Es un material indispensable en el procesamiento de semiconductores.

Los productos de recubrimiento TAC CVD generalmente se usan en cámaras de reacción, portadores de obleas y equipos de grabado, y juegan los siguientes roles clave en ellos.

El recubrimiento CVD TaC se utiliza a menudo para componentes internos de cámaras de reacción, como sustratos, paneles de pared y elementos calefactores. Combinado con su excelente resistencia a altas temperaturas, puede resistir eficazmente la erosión de altas temperaturas, gases corrosivos y plasma, extendiendo así de manera efectiva la vida útil del equipo y garantizando la estabilidad del proceso y la pureza de la producción del producto.

Además, los portadores de obleas recubiertos con TaC (como botes de cuarzo, accesorios, etc.) también tienen una excelente resistencia al calor y a la corrosión química. El portador de oblea puede proporcionar un soporte confiable para la oblea a altas temperaturas, evitar la contaminación y deformación de la oblea y, por lo tanto, mejorar el rendimiento general del chip.

Además, el recubrimiento TAC del semiconductor de Vetek también se usa ampliamente en diversos equipos de grabado y deposición de películas delgadas, como grabadores de plasma, sistemas de deposición de vapor químico, etc. En estos sistemas de procesamiento, el recubrimiento de TAC CVD puede soportar bombardeos de iones de alta energía y fuertes reacciones químicas químicas , asegurando así la precisión y repetibilidad del proceso.

Cualesquiera que sean sus requisitos específicos, coincidiremos con la mejor solución para sus necesidades de recubrimiento CVD TAC y esperamos su consulta en cualquier momento.



Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD TAC:

Propiedades físicas del recubrimiento TAC
Densidad 14.3 (g/cm³)
Emisividad específica 0.3
Coeficiente de expansión térmica

6.3x10-6/K

Dureza (HK) 2000 HK
Resistencia 1 × 10-5Ohmios*cm
Estabilidad térmica <2500 ℃
Cambios de tamaño de grafito -10~-20um
Espesor del recubrimiento Valor típico ≥20um (35um±10um)



Vetek Semiconductor CVD TAC TAC SHOPS:

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Descripción general de la cadena de la industria de la epitaxia de chips semiconductores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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