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Anillo de carburo tantalum
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Anillo de carburo tantalum

Como fabricante avanzado y productor de productos de anillo de carburo Tantalum en China, el anillo de carburo de Tantalum de semiconductores Vetek tiene una dureza extremadamente alta, resistencia al desgaste, resistencia a alta temperatura y estabilidad química, y se usa ampliamente en el campo de fabricación de semiconductores. Especialmente en CVD, PVD, proceso de implantación de iones, proceso de grabado y procesamiento y transporte de obleas, es un producto indispensable para el procesamiento y fabricación de semiconductores. Esperamos su consulta adicional.

El anillo de carburo tantálico (TAC) del semiconductor de Vetek utiliza grafito de alta calidad como material central y, gracias a su estructura única, puede mantener su forma y propiedades mecánicas en las condiciones extremas de un horno de crecimiento cristalino. La alta resistencia al calor de Graphite le da una excelente estabilidad en todo elproceso de crecimiento de cristales.


La capa externa del anillo TAC está cubierta con unrevestimiento de carburo tantalum, un material conocido por su dureza extremadamente alta, punto de fusión de más de 3880 ° C y una excelente resistencia a la corrosión química, lo que lo hace especialmente adecuado para entornos operativos de alta temperatura. El recubrimiento de carburo Tantalum proporciona una fuerte barrera para prevenir efectivamente reacciones químicas violentas y garantizar que el núcleo del grafito no esté corroído por gases de horno de alta temperatura.


DuranteCrecimiento de cristal de carburo de silicio (sic)Las condiciones de crecimiento estables y uniformes son clave para garantizar cristales de alta calidad. El anillo de recubrimiento de carburo tantalum juega un papel vital en la regulación del flujo de gas y la optimización de la distribución de la temperatura dentro del horno. Como anillo de guía de gas, el anillo TAC garantiza una distribución uniforme de la energía térmica y los gases de reacción, asegurando un crecimiento uniforme y la estabilidad de los cristales de SiC.


Además, la alta conductividad térmica del grafito combinada con el efecto protector del recubierto de carburo tantalum permite que el anillo de la guía de TAC funcione de manera estable en el entorno de alta temperatura requerido para el crecimiento del cristal de SiC. Su resistencia estructural y estabilidad dimensional son cruciales para mantener condiciones en el horno, lo que afecta directamente la calidad de los cristales producidos. Al reducir las fluctuaciones térmicas y las reacciones químicas dentro del horno, el anillo de recubrimiento TAC ayuda a generar cristales con excelentes propiedades electrónicas para aplicaciones de semiconductores de alto rendimiento.


El anillo de carburo tantalum del semiconductor de Vetek es un componente clave dehornos de crecimiento de cristal de carburo de silicioy se destaca por su excelente durabilidad, estabilidad térmica y resistencia química. Su combinación única de núcleo de grafito y recubrimiento TAC le permite mantener la integridad estructural y la funcionalidad en condiciones duras. Al controlar con precisión la temperatura y el flujo de gas dentro del horno, el anillo de recubrimiento TAC proporciona las condiciones necesarias para la producción de cristales SIC de alta calidad, que son críticos para la producción de componentes semiconductores de vanguardia.


Recubrimiento de carburo tantalum (TAC) en una sección transversal microscópica

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4



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