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Cubierta recubierta de carburo tantalum
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Cubierta recubierta de carburo tantalum

Vetek Semiconductor es un fabricante de cobertura e innovador recubierto de carburo tántalo líder en China. Hemos sido especializados en recubrimiento TAC y SIC durante muchos años. Nuestros productos tienen resistencia a la corrosión, alta fuerza. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China. Asegurado para consultar en cualquier momento.

Encuentre una gran selección de cobertura recubierta de carburo tantalum de China en Vetek Semiconductor. Proporcione un servicio postventa profesional y el precio correcto, esperando la cooperación. La cubierta recubierta de carburo Tantalum desarrollada por Vetek Semiconductor es un accesorio específicamente diseñado para el sistema AixTron G10 MOCVD, con el objetivo de optimizar la eficiencia y mejorar la calidad de fabricación de semiconductores. Se elabora meticulosamente utilizando materiales de alta calidad y se fabrica con la máxima precisión, lo que garantiza un rendimiento y confiabilidad sobresalientes para los procesos de deposición de vapor químico de metal-orgánico (MOCVD).


Construido con un sustrato de grafito recubierto con deposición de vapor químico (CVD) carburo de tantalum (TAC), la cubierta recubierta de carburo tantalum ofrece una estabilidad térmica excepcional, alta pureza y resistencia a temperaturas elevadas. Esta combinación única de materiales proporciona una solución confiable para las condiciones operativas exigentes del sistema MOCVD.


La cubierta recubierta de carburo Tantalum es personalizable para acomodar varios tamaños de obleas de semiconductores, lo que lo hace adecuado para diversos requisitos de producción. Su construcción robusta está diseñada específicamente para resistir el desafiante entorno MOCVD, asegurando el rendimiento de larga data y minimizando los costos de inactividad y mantenimiento asociados con los transportistas y susceptores de obleas.


Al incorporar la cubierta TAC en el sistema AixTron G10 MOCVD, los fabricantes de semiconductores pueden lograr una mayor eficiencia y resultados superiores. La estabilidad térmica excepcional, la compatibilidad con diferentes tamaños de obleas y el rendimiento confiable del disco planetario lo convierten en una herramienta indispensable para optimizar la eficiencia de producción y obtener resultados sobresalientes en el proceso MOCVD.



Parámetro del producto de la cubierta recubierta de carburo Tantalum

Propiedades físicas del recubrimiento TAC
Densidad 14.3 (g/cm³)
Emisividad específica 0.3
Coeficiente de expansión térmica 6.3 10-6/K
Dureza (HK) 2000 HK
Resistencia 1 × 10-5Ohm*cm
Estabilidad térmica <2500 ℃
Cambios de tamaño de grafito -10 ~ -20um
Espesor de revestimiento ≥20um valor típico (35um ± 10um)


Rendimiento de la oblea después de usar nuestros componentes:

the Wafer performance after using our components


Comerciante semiconductor:

Tantalum Carbide Coated Cover shops


Descripción general de la cadena industrial de epitaxia de chip de semiconductores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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