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Anillo de enfoque de SiC sólido
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Anillo de enfoque de SiC sólido

El anillo de enfoque de SiC sólido de Veteksemi mejora significativamente la uniformidad del grabado y la estabilidad del proceso al controlar con precisión el campo eléctrico y el flujo de aire en el borde de la oblea. Se utiliza ampliamente en procesos de grabado de precisión para silicio, dieléctricos y materiales semiconductores compuestos, y es un componente clave para garantizar el rendimiento de la producción en masa y el funcionamiento confiable del equipo a largo plazo.

1. Información general del producto

Lugar de origen:
Porcelana
Nombre de marca:
Veteksem
Número de modelo:
Anillo de enfoque de SiC sólido-01
Proceso de dar un título:
ISO9001

2. Términos comerciales del producto

Cantidad mínima de pedido:
Sujeto a negociación
Precio:
Contacto para cotización personalizada
Detalles de empaquetado:
Paquete de exportación estándar
El tiempo de entrega:
Tiempo de entrega: 30-45 días después de la confirmación del pedido
Condiciones de pago:
T/T
Capacidad de suministro:
100 unidades/mes

3.Solicitud:El anillo de enfoque de SiC sólido de Veteksemi mejora significativamente la uniformidad del grabado y la estabilidad del proceso al controlar con precisión el campo eléctrico y el flujo de aire en el borde de la oblea. Se utiliza ampliamente en procesos de grabado de precisión para silicio, dieléctricos y materiales semiconductores compuestos, y es un componente clave para garantizar el rendimiento de la producción en masa y el funcionamiento confiable del equipo a largo plazo.

Servicios que se pueden prestar:Análisis de escenarios de aplicación del cliente, combinación de materiales, resolución de problemas técnicos.

Perfil de la empresa:Semixlab cuenta con 2 laboratorios, un equipo de expertos con 20 años de experiencia en materiales, con capacidades de I+D y producción, ensayo y verificación.


4.Descripción:

El anillo de enfoque de SiC sólido Veteksemi está diseñado específicamente para procesos avanzados de grabado de semiconductores. Fabricado con precisión a partir de carburo de silicio de alta pureza, ofrece excelente resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión por plasma y estabilidad mecánica. Adecuado para una variedad de entornos exigentes de fabricación de semiconductores, este producto mejora significativamente la uniformidad del proceso, extiende los ciclos de mantenimiento de los equipos y reduce los costos generales de producción.


5.TParámetros técnicos

Proyecto
Parámetro
Material
Carburo de silicio sinterizado de alta pureza
Densidad
≥3,10g/cm3
Conductividad térmica
120 W/m·K(@25°C)
Coeficiente de expansión térmica.
4,0×10-6/°C(20-1000°C)
Rugosidad de la superficie
Ra≤0,5μm (estándar), se puede personalizar a 0,2μm
Dispositivos aplicables
Aplicable a las principales máquinas de grabado, como Applied Materials, Lam Research y TEL.


6.Principales campos de aplicación

Dirección de aplicación
Dirección de aplicaciónEscenario típico
Proceso de grabado de semiconductores
Grabado de silicio, grabado dieléctrico, grabado de metales, etc.
Fabricación de dispositivos de alta potencia.
Proceso de grabado de dispositivos basado en SiC y GaN
Embalaje avanzado
Proceso de grabado en seco en envases a nivel de oblea


7. Ventajas del núcleo del anillo de enfoque de SiC sólido Veteksem


Excelente resistencia a la corrosión por plasma

Bajo exposición prolongada a plasmas altamente corrosivos y de alta densidad, como CF4, O2 y Cl2, los materiales convencionales son susceptibles a un rápido desgaste y contaminación por partículas. Nuestro sólido anillo de enfoque de SiC exhibe una excelente resistencia a la corrosión, con una tasa de corrosión mucho menor que la de materiales como el cuarzo o la alúmina. Esto significa que mantiene una superficie lisa a lo largo del tiempo, lo que reduce significativamente el riesgo de defectos en las obleas causados ​​por el desgaste de los componentes, lo que garantiza una producción en masa continua y estable.


Excelente estabilidad a altas temperaturas y rendimiento de gestión térmica

El proceso de grabado de semiconductores genera un calor significativo, lo que hace que los componentes de la cámara experimenten fluctuaciones dramáticas de temperatura. Nuestros anillos de enfoque tienen un coeficiente de expansión térmica extremadamente bajo, capaz de soportar temperaturas transitorias de hasta 1600 °C sin agrietarse ni deformarse. Además, su alta conductividad térmica inherente ayuda a dispersar el calor de manera uniforme y rápida, mejorando efectivamente la distribución de la temperatura en el borde de la oblea, mejorando asíGarantizar la uniformidad del grabado y la consistencia de las dimensiones críticas en toda la oblea.


Extraordinaria pureza del material y densidad estructural

Controlamos estrictamente la pureza de las materias primas de carburo de silicio (≥99,999%) y eliminamos la contaminación metálica durante el proceso de sinterización para cumplir con los estrictos requisitos de los procesos de fabricación avanzados para el control de trazas de impurezas. La densa estructura formada mediante sinterización a alta temperatura tiene una porosidad extremadamente baja, bloqueando casi por completo la penetración de gases de proceso y subproductos. Esto evita la degradación del rendimiento y el crecimiento de partículas causado por la degradación interna del material, lo que garantiza un entorno puro en la cámara de proceso.


Vida mecánica duradera y rentabilidad integral

En comparación con los consumibles convencionales que requieren reemplazo frecuente, los anillos de enfoque de SiC sólido de Veteksemi ofrecen una durabilidad excepcional. Mantienen un rendimiento estable durante toda su vida útil, ampliando varias veces los ciclos de sustitución. Esto no sólo reduce directamente los costos de adquisición de repuestos, sino que también mejora significativamente la utilización de la máquina al reducir el tiempo de inactividad del equipo para mantenimiento, lo que resulta en importantes ventajas de costos generales para los clientes.


Control de tamaño preciso y servicios de personalización flexibles

Entendemos los requisitos precisos de diferentes máquinas y procesos para consumibles. Cada anillo de enfoque se somete a un mecanizado de precisión y a pruebas rigurosas para garantizar tolerancias dimensionales críticas dentro de ±0,05 mm. También ofrecemos servicios personalizados, incluidos tamaños personalizados, acabados superficiales (pulido a Ra ≤ 0,2 μm) y ajustes de conductividad para adaptarse perfectamente a sus requisitos de proceso específicos y escenarios de aplicación.


Para obtener especificaciones técnicas detalladas, documentos técnicos o arreglos de prueba de muestra, comuníquese con nuestro equipo de soporte técnico para explorar cómo Veteksemi puede mejorar la eficiencia de su proceso.





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  • Correo electrónico

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