Código QR
Sobre nosotros
Productos
Contáctenos

Teléfono

Fax
+86-579-87223657

Correo electrónico

DIRECCIÓN
Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, ciudad de Jinhua, provincia de Zhejiang, China
1. Información general del producto
|
Lugar de origen: |
Porcelana |
|
Nombre de marca: |
Veteksem |
|
Número de modelo: |
Anillo de enfoque de SiC sólido-01 |
|
Proceso de dar un título: |
ISO9001 |
2. Términos comerciales del producto
|
Cantidad mínima de pedido: |
Sujeto a negociación |
|
Precio: |
Contacto para cotización personalizada |
|
Detalles de empaquetado: |
Paquete de exportación estándar |
|
El tiempo de entrega: |
Tiempo de entrega: 30-45 días después de la confirmación del pedido |
|
Condiciones de pago: |
T/T |
|
Capacidad de suministro: |
100 unidades/mes |
Servicios que se pueden prestar:Análisis de escenarios de aplicación del cliente, combinación de materiales, resolución de problemas técnicos.
Perfil de la empresa:Semixlab cuenta con 2 laboratorios, un equipo de expertos con 20 años de experiencia en materiales, con capacidades de I+D y producción, ensayo y verificación.
El anillo de enfoque de SiC sólido Veteksemi está diseñado específicamente para procesos avanzados de grabado de semiconductores. Fabricado con precisión a partir de carburo de silicio de alta pureza, ofrece excelente resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión por plasma y estabilidad mecánica. Adecuado para una variedad de entornos exigentes de fabricación de semiconductores, este producto mejora significativamente la uniformidad del proceso, extiende los ciclos de mantenimiento de los equipos y reduce los costos generales de producción.
5.TParámetros técnicos
|
Proyecto |
Parámetro |
|
Material |
Carburo de silicio sinterizado de alta pureza |
|
Densidad |
≥3,10g/cm3 |
|
Conductividad térmica |
120 W/m·K(@25°C) |
|
Coeficiente de expansión térmica. |
4,0×10-6/°C(20-1000°C) |
|
Rugosidad de la superficie |
Ra≤0,5μm (estándar), se puede personalizar a 0,2μm |
|
Dispositivos aplicables |
Aplicable a las principales máquinas de grabado, como Applied Materials, Lam Research y TEL. |
6.Principales campos de aplicación
|
Dirección de aplicación |
Dirección de aplicaciónEscenario típico |
|
Proceso de grabado de semiconductores |
Grabado de silicio, grabado dieléctrico, grabado de metales, etc. |
|
Fabricación de dispositivos de alta potencia. |
Proceso de grabado de dispositivos basado en SiC y GaN |
|
Embalaje avanzado |
Proceso de grabado en seco en envases a nivel de oblea |
7. Ventajas del núcleo del anillo de enfoque de SiC sólido Veteksem
Excelente resistencia a la corrosión por plasma
Bajo exposición prolongada a plasmas altamente corrosivos y de alta densidad, como CF4, O2 y Cl2, los materiales convencionales son susceptibles a un rápido desgaste y contaminación por partículas. Nuestro sólido anillo de enfoque de SiC exhibe una excelente resistencia a la corrosión, con una tasa de corrosión mucho menor que la de materiales como el cuarzo o la alúmina. Esto significa que mantiene una superficie lisa a lo largo del tiempo, lo que reduce significativamente el riesgo de defectos en las obleas causados por el desgaste de los componentes, lo que garantiza una producción en masa continua y estable.
Excelente estabilidad a altas temperaturas y rendimiento de gestión térmica
El proceso de grabado de semiconductores genera un calor significativo, lo que hace que los componentes de la cámara experimenten fluctuaciones dramáticas de temperatura. Nuestros anillos de enfoque tienen un coeficiente de expansión térmica extremadamente bajo, capaz de soportar temperaturas transitorias de hasta 1600 °C sin agrietarse ni deformarse. Además, su alta conductividad térmica inherente ayuda a dispersar el calor de manera uniforme y rápida, mejorando efectivamente la distribución de la temperatura en el borde de la oblea, mejorando asíGarantizar la uniformidad del grabado y la consistencia de las dimensiones críticas en toda la oblea.
Extraordinaria pureza del material y densidad estructural
Controlamos estrictamente la pureza de las materias primas de carburo de silicio (≥99,999%) y eliminamos la contaminación metálica durante el proceso de sinterización para cumplir con los estrictos requisitos de los procesos de fabricación avanzados para el control de trazas de impurezas. La densa estructura formada mediante sinterización a alta temperatura tiene una porosidad extremadamente baja, bloqueando casi por completo la penetración de gases de proceso y subproductos. Esto evita la degradación del rendimiento y el crecimiento de partículas causado por la degradación interna del material, lo que garantiza un entorno puro en la cámara de proceso.
Vida mecánica duradera y rentabilidad integral
En comparación con los consumibles convencionales que requieren reemplazo frecuente, los anillos de enfoque de SiC sólido de Veteksemi ofrecen una durabilidad excepcional. Mantienen un rendimiento estable durante toda su vida útil, ampliando varias veces los ciclos de sustitución. Esto no sólo reduce directamente los costos de adquisición de repuestos, sino que también mejora significativamente la utilización de la máquina al reducir el tiempo de inactividad del equipo para mantenimiento, lo que resulta en importantes ventajas de costos generales para los clientes.
Control de tamaño preciso y servicios de personalización flexibles
Entendemos los requisitos precisos de diferentes máquinas y procesos para consumibles. Cada anillo de enfoque se somete a un mecanizado de precisión y a pruebas rigurosas para garantizar tolerancias dimensionales críticas dentro de ±0,05 mm. También ofrecemos servicios personalizados, incluidos tamaños personalizados, acabados superficiales (pulido a Ra ≤ 0,2 μm) y ajustes de conductividad para adaptarse perfectamente a sus requisitos de proceso específicos y escenarios de aplicación.
Para obtener especificaciones técnicas detalladas, documentos técnicos o arreglos de prueba de muestra, comuníquese con nuestro equipo de soporte técnico para explorar cómo Veteksemi puede mejorar la eficiencia de su proceso.

DIRECCIÓN
Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, ciudad de Jinhua, provincia de Zhejiang, China
Teléfono
Correo electrónico


+86-579-87223657


Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, ciudad de Jinhua, provincia de Zhejiang, China
Copyright © 2024 WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd. Reservados todos los derechos.
Links | Sitemap | RSS | XML | política de privacidad |
