Proceso de deposición de vapor químico anillo de borde sic sólido

CVD Proceso Anillo de borde sic sólido:

● Material: El anillo de enfoque se fabrica a partir de SIC sólido, un material cerámico de alta pureza y alto rendimiento. Se prepara por deposición química de vapor. El material SIC sólido proporciona una durabilidad excepcional, resistencia a alta temperatura y excelentes propiedades mecánicas.

●  Ventajas: El anillo CVD SIC ofrece una estabilidad térmica sobresaliente, manteniendo su integridad estructural incluso en condiciones de alta temperatura encontradas en procesos de grabado seco. Su alta dureza asegura la resistencia al estrés mecánico y al desgaste, lo que lleva a una vida útil prolongada. Además, la SIC sólida exhibe inercia química, protegiéndola de la corrosión y manteniendo su rendimiento con el tiempo.

Recubrimiento SIC CVD:

●  Material: El recubrimiento CVD SIC es una deposición de película delgada de SIC utilizando técnicas de deposición de vapor químico (CVD). El recubrimiento se aplica a un material de sustrato, como grafito o silicio, para proporcionar propiedades SIC a la superficie.

●  Comparación: Si bien los recubrimientos SIC CVD ofrecen algunas ventajas, como la deposición conforme en formas complejas y propiedades de película sintonizables, es posible que no coincidan con la robustez y el rendimiento de SIC sólido. El grosor de recubrimiento, la estructura cristalina y la rugosidad de la superficie pueden variar según los parámetros del proceso de CVD, lo que puede afectar la durabilidad y el rendimiento general del recubrimiento.

En resumen, el anillo de enfoque SIC sólido de semiconductores Vetek es una opción excepcional para aplicaciones de grabado seco. Su material SIC sólido asegura una resistencia a alta temperatura, excelente dureza e inercia química, lo que lo convierte en una solución confiable y duradera. Si bien el recubrimiento CVD SIC ofrece flexibilidad en la deposición, el anillo CVD SIC sobresale en proporcionar una durabilidad y un rendimiento inigualables requeridos para exigir procesos de grabado seco.

Propiedades físicas de sic sic