Cabezal de ducha de gas SiC sólido

Cabezal de ducha de gas SiC sólido

VeTek Semiconductor es una empresa integrada dedicada a la investigación, producción y ventas. VeTek Semiconductor ha estado trabajando en epitaxia de semiconductores, grabado y otros productos relacionados con procesos durante muchos años, especialmente el recubrimiento CVD SiC, el recubrimiento CVD TaC y el CVD Solid SiC son nuestros productos estrella.

El cabezal de ducha SIC de gas sólido vetek de semiconductores se usa comúnmente para distribuir uniformemente gases precursores en la superficie del sustrato durante los procesos de CVD de semiconductores. El uso de material CVD-SIC para cabezas de ducha ofrece varias ventajas. Su alta conductividad térmica ayuda a disipar el calor generado en el proceso de CVD, asegurando la distribución de temperatura uniforme en el sustrato. Además, la estabilidad química de la cabeza de ducha CVD SIC le permite resistir gases corrosivos y ambientes duros comúnmente encontrados en los procesos de ECV. 

El diseño de los cabezales de ducha CVD SiC se puede adaptar a sistemas CVD y requisitos de proceso específicos. Sin embargo, normalmente constan de una placa o componente en forma de disco con una serie de orificios o ranuras perforados con precisión. El patrón de orificios y la geometría están cuidadosamente diseñados para garantizar una distribución uniforme del gas y una velocidad de flujo sobre la superficie del sustrato.

Propiedades físicas de sic sic