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WAFER DE CARBIDE DE SILICON CHUCK
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WAFER DE CARBIDE DE SILICON CHUCK

Como fabricante líder y proveedor de productos de ara de la oblea de carburo de silicio en China, el chuck de la oblea de carburo de silicio de semiconductores de Vetek juega un papel irremplazable en el proceso de crecimiento epitaxial con su excelente resistencia de alta temperatura, resistencia a la corrosión química y resistencia a la choque térmico. Dé la bienvenida a su consulta adicional.

La oblea de carburo de silicio de semiconductores Vetek utiliza las excelentes propiedades de los materiales de carburo de silicio para cumplir con los requisitos estrictos de la producción de semiconductores, especialmente en el procesamiento de semiconductores que requieren precisión y confiabilidad extremadamente altas.


En el proceso de procesamiento de semiconductores,Carburo de silicioTiene una excelente resistencia a la temperatura alta (puede trabajar de manera estable a hasta 1400 ° C), baja conductividad (SIC tiene una conductividad relativamente baja, típicamente 10^-3S/m) y coeficiente de expansión térmica baja (aproximadamente 4.0 × 10^-6/° C), que es un material indispensable e importante, especialmente adecuado para la fabricación de fuck de oblea de carburo de silicio.


Durante elproceso de crecimiento epitaxial, se deposita una capa delgada de material semiconductor en un sustrato, lo que requiere una estabilidad absoluta de la oblea para garantizar capas de deposición de películas uniformes y de alta calidad. El chuck Sic Vacuum logra esto creando una bodega de vacío firme y consistente para evitar cualquier movimiento o deformación de la oblea.


El Chuck de la oblea de carburo de silicio también ofrece una excelente resistencia al choque térmico. Los cambios rápidos de temperatura son comunes en la fabricación de semiconductores, y los materiales que no pueden resistir estas fluctuaciones pueden agrietarse, doblarse o fallar. El carburo de silicio tiene un bajo coeficiente de expansión térmica y puede mantener su forma y función incluso bajo cambios de temperatura drástica, lo que garantiza que la oblea permanezca segura durante el proceso de epitaxia sin movimiento o desalineación.


Además, elproceso de epitaxiaA menudo implica gases reactivos y otros productos químicos corrosivos. La inercia química del Chuck de la oblea de SiC asegura que no se ve afectado por estos entornos duros, manteniendo su rendimiento y extendiendo su vida útil. Esta durabilidad química no solo reduce la frecuencia del reemplazo de la oblea, sino que también garantiza un rendimiento constante del producto en múltiples ciclos de producción, lo que ayuda a mejorar la eficiencia general y la rentabilidad del proceso de fabricación de semiconductores.


Vetek Semiconductor es un fabricante y proveedor líder de productos Chuck Wafer de obleas de carburo de silicio en China. Podemos proporcionar varios tipos de productos de Chuck, comoCerámica de cerámica porosa, Chuck poroso sic ascuum, Mechón de aspiradora de cerámica porosayTac recubierto de chuck, etc. Vetek Semiconductor se compromete a proporcionar tecnología avanzada y soluciones de productos para la industria de semiconductores. Esperamos sinceramente convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Datos de SEM de CVDEstructura cristalina de película sic

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


Vetek semiconductor silicon carburo wafer chuck shops

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