Productos

Recubrimiento de carburo de silicio

VeTek Semiconductor se especializa en la producción de productos de recubrimiento de carburo de silicio ultra puro, estos recubrimientos están diseñados para aplicarse a grafito purificado, cerámica y componentes metálicos refractarios.


Nuestros recubrimientos de alta pureza están destinados principalmente a su uso en las industrias de semiconductores y electrónica. Sirven como capa protectora para portadores de obleas, susceptores y elementos calefactores, protegiéndolos de los entornos corrosivos y reactivos que se encuentran en procesos como MOCVD y EPI. Estos procesos son parte integral del procesamiento de obleas y la fabricación de dispositivos. Además, nuestros recubrimientos son adecuados para aplicaciones en hornos de vacío y calentamiento de muestras, donde se encuentran ambientes de alto vacío, reactivos y oxígeno.


En VeTek Semiconductor, ofrecemos una solución integral con nuestras capacidades avanzadas de taller mecánico. Esto nos permite fabricar los componentes base utilizando grafito, cerámica o metales refractarios y aplicar los recubrimientos cerámicos de SiC o TaC internamente. También brindamos servicios de recubrimiento para piezas suministradas por el cliente, lo que garantiza flexibilidad para satisfacer diversas necesidades.


Nuestros productos de recubrimiento de carburo de silicio se utilizan ampliamente en epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, proceso RTP/RTA, proceso de grabado, proceso de grabado ICP/PSS, proceso de varios tipos de LED, incluidos LED azul y verde, LED UV y UV profundo. LED, etc., que se adapta a equipos de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.


Piezas del reactor que podemos hacer:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Recubrimiento de carburo de silicio varias ventajas únicas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parámetro de recubrimiento de carburo de silicio semiconductor VeTek

Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC.
Propiedad Valor típico
Estructura cristalina FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111)
Densidad del recubrimiento de SiC 3,21 g/cm³
Recubrimiento de SiCDureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g)
Tamaño del grano 2~10μm
Pureza química 99,99995%
Capacidad calorífica 640 J·kg-1·k-1
Temperatura de sublimación 2700 ℃
Resistencia a la flexión 415 MPa RT de 4 puntos
Módulo de Young Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃
Conductividad térmica 300W·m-1·k-1
Expansión Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

ESTRUCTURA CRISTALINA DE PELÍCULA CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Anillo de sello de carburo de silicio

Anillo de sello de carburo de silicio

Como fabricante de productos y fábricas profesionales de anillo de sellado de carburo de silicio en China, el anillo de sello de carburo de silicio de semiconductores vetek se usa ampliamente en equipos de procesamiento de semiconductores debido a su excelente resistencia al calor, resistencia a la corrosión, resistencia mecánica y conductividad térmica. Es especialmente adecuado para procesos que involucran alta temperatura y gases reactivos como ECV, PVD y grabado en plasma, y ​​es una opción de material clave en el proceso de fabricación de semiconductores. Sus nuevas consultas son bienvenidas.
Titular de la oblea recubierta de SIC

Titular de la oblea recubierta de SIC

Vetek Semiconductor es un fabricante profesional y líder de productos de soporte de obleas recubiertos de SIC en China. El titular de la oblea recubierta de SIC es un titular de la oblea para el proceso de epitaxia en el procesamiento de semiconductores. Es un dispositivo insustituible que estabiliza la oblea y garantiza el crecimiento uniforme de la capa epitaxial. Dé la bienvenida a su consulta adicional.
Titular de la oblea EPI

Titular de la oblea EPI

Vetek Semiconductor es un fabricante y fábrica de titulares de obleas EPI profesionales en China. El titular de la oblea EPI es un titular de la oblea para el proceso de epitaxia en el procesamiento de semiconductores. Es una herramienta clave para estabilizar la oblea y garantizar un crecimiento uniforme de la capa epitaxial. Se usa ampliamente en equipos de epitaxia como MOCVD y LPCVD. Es un dispositivo insustituible en el proceso de epitaxia. Dé la bienvenida a su consulta adicional.
Portadora de obleas satelital de Aixtron

Portadora de obleas satelital de Aixtron

El portador de obleas de satélite Aixtron de Vetek Semiconductor es un portador de obleas que se usa en el equipo Aixtron, utilizado principalmente en procesos MOCVD, y es particularmente adecuado para procesos de procesamiento de semiconductores de alta temperatura y alta precisión. El portador puede proporcionar soporte de obleas estable y deposición de películas uniformes durante el crecimiento epitaxial de MOCVD, que es esencial para el proceso de deposición de la capa. Dé la bienvenida a su consulta adicional.
Reactor de Sic EPI de Halfmoon Sic LPE

Reactor de Sic EPI de Halfmoon Sic LPE

Vetek Semiconductor es un fabricante de productos, innovador y líder de LPE, innovador y líder en China. LPE Halfmoon SIC EPI Reactor es un dispositivo diseñado específicamente para producir capas epitaxiales de carburo de silicio (SIC) de alta calidad, utilizadas principalmente en la industria de semiconductores. Bienvenido a sus consultas adicionales.
Así recubrimiento del receptor EPI

Así recubrimiento del receptor EPI

Vetek Semiconductor es un fabricante líder, innovador de productos de susceptores EPI de recubrimiento SIC en China. Durante muchos años, nos hemos centrado en varios productos de recubrimiento de SIC, como el susceptor EPI de recubrimiento SIC, el susceptor de recubrimiento SIC ALD, etc. Bienvenido su consulta adicional.
Como fabricante y proveedor profesional Recubrimiento de carburo de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Recubrimiento de carburo de silicio avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
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