Productos

Recubrimiento de carburo de silicio

VeTek Semiconductor se especializa en la producción de productos de recubrimiento de carburo de silicio ultra puro, estos recubrimientos están diseñados para aplicarse a grafito purificado, cerámica y componentes metálicos refractarios.


Nuestros recubrimientos de alta pureza están destinados principalmente a su uso en las industrias de semiconductores y electrónica. Sirven como capa protectora para portadores de obleas, susceptores y elementos calefactores, protegiéndolos de los entornos corrosivos y reactivos que se encuentran en procesos como MOCVD y EPI. Estos procesos son parte integral del procesamiento de obleas y la fabricación de dispositivos. Además, nuestros recubrimientos son adecuados para aplicaciones en hornos de vacío y calentamiento de muestras, donde se encuentran ambientes de alto vacío, reactivos y oxígeno.


En VeTek Semiconductor, ofrecemos una solución integral con nuestras capacidades avanzadas de taller mecánico. Esto nos permite fabricar los componentes base utilizando grafito, cerámica o metales refractarios y aplicar los recubrimientos cerámicos de SiC o TaC internamente. También brindamos servicios de recubrimiento para piezas suministradas por el cliente, lo que garantiza flexibilidad para satisfacer diversas necesidades.


Nuestros productos de recubrimiento de carburo de silicio se utilizan ampliamente en epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, proceso RTP/RTA, proceso de grabado, proceso de grabado ICP/PSS, proceso de varios tipos de LED, incluidos LED azul y verde, LED UV y UV profundo. LED, etc., que se adapta a equipos de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.


Piezas del reactor que podemos hacer:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Recubrimiento de carburo de silicio varias ventajas únicas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parámetro de recubrimiento de carburo de silicio semiconductor VeTek

Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC.
Propiedad Valor típico
Estructura cristalina FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111)
Densidad del recubrimiento de SiC 3,21 g/cm³
Recubrimiento de SiCDureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g)
Tamaño del grano 2~10μm
Pureza química 99,99995%
Capacidad calorífica 640 J·kg-1·k-1
Temperatura de sublimación 2700 ℃
Resistencia a la flexión 415 MPa RT de 4 puntos
Módulo de Young Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃
Conductividad térmica 300W·m-1·k-1
Expansión Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

ESTRUCTURA CRISTALINA DE PELÍCULA CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Veeco Mocvd Providence

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Como fabricante líder y proveedor de productos de susceptores Veeco MOCVD en China, el susceptor MOCVD de Vetek Semiconductor representa el pináculo de la innovación e excelencia en la ingeniería, especialmente personalizado para cumplir con los complejos requisitos de los procesos de fabricación de semiconductores contemporáneos. Dé la bienvenida a sus consultas adicionales.
Parte de sellado de sic

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Como un fabricante de productos y fábrica de productos de sellado SIC avanzado en China. La parte de sellado de vetek semiconducto es un componente de sellado de alto rendimiento ampliamente utilizado en el procesamiento de semiconductores y otros procesos extremos de alta temperatura y alta presión. Dé la bienvenida a su consulta adicional.
WAFER DE CARBIDE DE SILICON CHUCK

WAFER DE CARBIDE DE SILICON CHUCK

Como fabricante líder y proveedor de productos de ara de la oblea de carburo de silicio en China, el chuck de la oblea de carburo de silicio de semiconductores de Vetek juega un papel irremplazable en el proceso de crecimiento epitaxial con su excelente resistencia de alta temperatura, resistencia a la corrosión química y resistencia a la choque térmico. Dé la bienvenida a su consulta adicional.
Cabezal de ducha de carburo de silicio

Cabezal de ducha de carburo de silicio

El cabezal de ducha de carburo de silicio tiene una excelente tolerancia a alta temperatura, estabilidad química, conductividad térmica y buen rendimiento de distribución de gases, que pueden lograr una distribución uniforme de gas y mejorar la calidad de la película. Por lo tanto, generalmente se usa en procesos de alta temperatura, como la deposición de vapor químico (CVD) o los procesos de deposición de vapor físico (PVD). Dé la bienvenida a su consulta adicional, Semiconductor Vetek.
Anillo de sello de carburo de silicio

Anillo de sello de carburo de silicio

Como fabricante y fábrica profesional de anillos de sello de carburo de silicio en China, el anillo de sello de carburo de silicio semiconductor VeTek se usa ampliamente en equipos de procesamiento de semiconductores debido a su excelente resistencia al calor, resistencia a la corrosión, resistencia mecánica y conductividad térmica. Es especialmente adecuado para procesos que involucran altas temperaturas y gases reactivos como CVD, PVD y grabado por plasma, y ​​es una elección de material clave en el proceso de fabricación de semiconductores. Sus consultas adicionales son bienvenidas.
Soporte para oblea recubierto de SiC

Soporte para oblea recubierto de SiC

VeTek Semiconductor es un fabricante profesional y líder de productos de soportes para obleas recubiertos de SiC en China. El soporte para obleas recubierto de SiC es un soporte para obleas para el proceso de epitaxia en el procesamiento de semiconductores. Es un dispositivo insustituible que estabiliza la oblea y asegura el crecimiento uniforme de la capa epitaxial. Bienvenido a su consulta adicional.
Como fabricante y proveedor profesional Recubrimiento de carburo de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Recubrimiento de carburo de silicio avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
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