Recubrimiento de carburo de silicio

VeTek Semiconductor se especializa en la producción de productos de recubrimiento de carburo de silicio ultra puro, estos recubrimientos están diseñados para aplicarse a grafito purificado, cerámica y componentes metálicos refractarios.


Nuestros recubrimientos de alta pureza están destinados principalmente a su uso en las industrias de semiconductores y electrónica. Sirven como capa protectora para portadores de obleas, susceptores y elementos calefactores, protegiéndolos de los entornos corrosivos y reactivos que se encuentran en procesos como MOCVD y EPI. Estos procesos son parte integral del procesamiento de obleas y la fabricación de dispositivos. Además, nuestros recubrimientos son adecuados para aplicaciones en hornos de vacío y calentamiento de muestras, donde se encuentran ambientes de alto vacío, reactivos y oxígeno.


En VeTek Semiconductor, ofrecemos una solución integral con nuestras capacidades avanzadas de taller mecánico. Esto nos permite fabricar los componentes base utilizando grafito, cerámica o metales refractarios y aplicar los recubrimientos cerámicos de SiC o TaC internamente. También brindamos servicios de recubrimiento para piezas suministradas por el cliente, lo que garantiza flexibilidad para satisfacer diversas necesidades.


Nuestros productos de recubrimiento de carburo de silicio se utilizan ampliamente en epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, proceso RTP/RTA, proceso de grabado, proceso de grabado ICP/PSS, proceso de varios tipos de LED, incluidos LED azul y verde, LED UV y UV profundo. LED, etc., que se adapta a equipos de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.


Piezas del reactor que podemos hacer:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Recubrimiento de carburo de silicio varias ventajas únicas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parámetro de recubrimiento de carburo de silicio semiconductor VeTek

Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC.
Propiedad Valor típico
Estructura cristalina FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111)
Densidad del recubrimiento de SiC 3,21 g/cm³
Recubrimiento de SiCDureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g)
Tamaño del grano 2~10μm
Pureza química 99,99995%
Capacidad calorífica 640 J·kg-1·k-1
Temperatura de sublimación 2700 ℃
Resistencia a la flexión 415 MPa RT de 4 puntos
Módulo de Young Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃
Conductividad térmica 300W·m-1·k-1
Expansión Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

ESTRUCTURA CRISTALINA DE PELÍCULA CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Susceptor epitaxial MOCVD para oblea de 4

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El susceptor epitaxial MOCVD para la oblea de 4 "está diseñado para cultivar una capa epitaxial de 4". Podemos ofrecer soluciones expertas y eficientes a nuestros clientes. Usted es bienvenido a comunicarse con nosotros.
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VeTek Semiconductor es un fabricante y proveedor profesional dedicado a proporcionar susceptor de grafito epitaxial GaN de alta calidad para G5. Hemos establecido asociaciones estables y a largo plazo con numerosas empresas reconocidas en el país y en el extranjero, ganándonos la confianza y el respeto de nuestros clientes.
Bloque de susceptores de semiconductores SIC recubierto

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El bloque de susceptores de semiconductores de Vetek Semiconductor es un dispositivo altamente confiable y duradero. Está diseñado para soportar altas temperaturas y entornos químicos duros mientras se mantiene un rendimiento estable y una larga vida útil. Con sus excelentes capacidades de proceso, el bloqueo de susceptores semiconductores recubierto reduce la frecuencia de reemplazo y mantenimiento, mejorando así la eficiencia de producción. Esperamos la oportunidad de colaborar con usted. Aprendida para consultar en cualquier momento.
Susceptor de MOCVD recubierto de SIC

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El susceptor MOCVD recubierto de SIC de Veteksemicon es un dispositivo con excelente proceso, durabilidad y confiabilidad. Pueden soportar ambientes químicos y de alta temperatura, mantener un rendimiento estable y una larga vida útil, reduciendo así la frecuencia de reemplazo y mantenimiento y mejorando la eficiencia de producción. Nuestro susceptor epitaxial MOCVD es reconocido por su alta densidad, excelente planitud y excelente control térmico, lo que lo convierte en el equipo preferido en entornos de fabricación hostiles. Espero cooperar con usted.
Portador de grabado ICP recubierto de SIC

Portador de grabado ICP recubierto de SIC

El portador de grabado ICP recubierto de Veteksemicon SIC está diseñado para las aplicaciones de equipos de epitaxia más exigentes. Hecho de material de grafito ultra puro de alta calidad, nuestro portador de grabado ICP recubierto de SIC tiene una superficie altamente plana y una excelente resistencia a la corrosión para resistir las duras condiciones durante el manejo. La alta conductividad térmica del portador recubierto de SIC garantiza una distribución incluso de calor para excelentes resultados de grabado.
Placa portadora de grabado de PSS para semiconductor

Placa portadora de grabado de PSS para semiconductor

La placa portadora de grabado PSS de Vetek Semiconductor para semiconductor es un portador de grafito ultra pure de alta calidad diseñado para procesos de manejo de obleas. Nuestros portadores tienen un excelente rendimiento y pueden funcionar bien en entornos hostiles, altas temperaturas y condiciones de limpieza química duras. Nuestros productos son ampliamente utilizados en muchos mercados europeos y estadounidenses, y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China. Usted puede venir a China para visitar nuestra fábrica y aprender más sobre nuestra tecnología y productos.
Como fabricante y proveedor profesional Recubrimiento de carburo de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Recubrimiento de carburo de silicio avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
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