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Entonces recubriendo el soporte
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Entonces recubriendo el soporte

Vetek Semiconductor se centra en la investigación y el desarrollo e industrialización del recubrimiento SIC CVD y el recubrimiento CVD TAC. Tomando susceptor de recubrimiento SIC como ejemplo, el producto está altamente procesado con alta precisión, recubrimiento CVD SIC denso, alta resistencia a la temperatura y una fuerte resistencia a la corrosión. Su consulta en nosotros es bienvenida.

Puede estar seguro de comprar un susceptor de recubrimiento SIC de nuestra fábrica. Como fabricante de recubrimiento CVD SIC, Vetek Semiconductor desea proporcionarle susceptores de recubrimiento SIC que está hecho de susceptor de recubrimiento de grafito y recubrimiento SIC de alta pureza (por debajo de 5ppm). Aprendiendo para informarnos.


En Vetek Semiconductor, nos especializamos en investigación tecnológica, desarrollo y fabricación, que ofrece una gama de productos avanzados para la industria. Nuestra línea principal de productos incluye recubrimiento CVD SIC+grafito de alta pureza, susceptor recubierto de SIC, cuarzo semiconductor, recubrimiento CVD TAC+grafito de alta pureza, fieltro rígido y otros materiales.

Uno de nuestros productos insignia es el susceptor de recubrimiento SIC, desarrollado con tecnología innovadora para cumplir con los requisitos estrictos de la producción de obleas epitaxiales. Las obleas epitaxiales deben exhibir una distribución de longitud de onda estrecha y bajos niveles de defectos de la superficie, lo que hace que nuestro susceptor de recubrimiento SIC sea un componente esencial para lograr estos parámetros cruciales.

Ventajas de nuestro susceptor de recubrimiento SIC:


✔ Protección de material base: El recubrimiento CVD SIC actúa como una capa protectora durante el proceso epitaxial, protegiendo efectivamente el material base de la erosión y el daño causado por el entorno externo. Esta medida de protección extiende enormemente la vida útil del equipo.

✔ Excelente conductividad térmica: Nuestro recubrimiento SIC CVD posee una conductividad térmica sobresaliente, que transfiere eficientemente el calor del material base a la superficie de recubrimiento. Esto mejora la eficiencia de gestión térmica durante la epitaxia, asegurando temperaturas de funcionamiento óptimas para el equipo.

✔ Calidad de la película mejorada: El recubrimiento SIC CVD proporciona una superficie plana y uniforme, creando una base ideal para el crecimiento de la película. Reduce los defectos resultantes del desajuste de la red, mejora la cristalinidad y la calidad de la película epitaxial y, en última instancia, mejora su rendimiento y confiabilidad.


Elija el susceptor de recubrimiento SIC semiconductor Vetek para sus necesidades de producción de obleas epitaxiales y se beneficie de una protección mejorada, conductividad térmica superior y una mejor calidad de la película. Confianza en las soluciones innovadoras de Vetek Semiconductor para impulsar su éxito en la industria de semiconductores.

Propiedades físicas básicas del recubrimiento SIC CVD:

Propiedades físicas básicas del recubrimiento SIC CVD
Propiedad Valor típico
Estructura cristalina Policristalina de fase β FCC, principalmente (111) orientada
Densidad SIC CVD 3.21 g/cm³
Dureza de recubrimiento SIC CVD 2500 Vickers Dureza (500 g de carga)
Tamaño de grano 2 ~ 10 mm
Pureza química 99.99995%
Capacidad de calor 640 j · kg-1· K-1
Temperatura de sublimación 2700 ℃
Resistencia a la flexión 415 MPA RT 4 puntos
Módulo de Young 430 GPA 4PT Bend, 1300 ℃
Conductividad térmica 300W · m-1· K-1
Expansión térmica (CTE) 4.5 × 10-6K-1

Veteksemi sic recubrimiento de la producción de productores:

SiC Coating Susceptor Production shops

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