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Anillo de entrada con revestimiento de SiC
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Anillo de entrada con revestimiento de SiC

Vetek Semiconductor se destaca por colaborar estrechamente con los clientes para crear diseños personalizados para el anillo de entrada de revestimiento de SiC adaptados a necesidades específicas. Estos anillos de entrada con revestimiento de SiC están meticulosamente diseñados para diversas aplicaciones, como equipos CVD de SiC y epitaxia de carburo de silicio. Para soluciones personalizadas de anillos de entrada de revestimiento de SiC, no dude en comunicarse con Vetek Semiconductor para obtener asistencia personalizada.

El fabricante chino Vetek Semiconductor ofrece un anillo de entrada con revestimiento de SiC de alta calidad. Compre un anillo de entrada con revestimiento de SiC que sea de alta calidad directamente a bajo precio.

Vetek Semiconductor se especializa en suministrar equipos de producción avanzados y competitivos diseñados para la industria de semiconductores, centrándose en componentes de grafito recubiertos de SiC como el anillo de entrada de recubrimiento de SiC para sistemas SiC-CVD de tercera generación. Estos sistemas facilitan el crecimiento de capas epitaxiales monocristalinas uniformes sobre sustratos de carburo de silicio, esenciales para la fabricación de dispositivos de potencia como diodos Schottky, IGBT, MOSFET y diversos componentes electrónicos.

El equipo SIC-CVD fusiona el proceso y el equipo sin problemas, ofreciendo ventajas notables en alta capacidad de producción, compatibilidad con obleas de 6/8 pulgadas, rentabilidad, control de crecimiento automático continuo en múltiples hornos, bajas tasas de defectos y mantenimiento conveniente y confiabilidad a través de la temperatura de temperatura a través de la temperatura de temperatura y diseños de control de campo de flujo. Cuando se combina con nuestro anillo de entrada de recubrimiento SIC, mejora la productividad del equipo, prolonga la vida útil operativa y gestiona efectivamente los costos.

El anillo de entrada de recubrimiento SIC del semiconductor de Vetek se caracteriza por alta pureza, propiedades de grafito estables, procesamiento preciso y el beneficio adicional del recubrimiento SIC CVD. La alta estabilidad de la temperatura de los recubrimientos de carburo de silicio protege sustratos de calor y corrosión química en ambientes extremos. Estos recubrimientos también ofrecen alta dureza y resistencia al desgaste, asegurando la vida útil del sustrato prolongada, la resistencia a la corrosión contra diversos productos químicos, coeficientes de baja fricción para pérdidas reducidas y una conductividad térmica mejorada para una disipación de calor eficiente. En general, los recubrimientos de carburo de silicio CVD proporcionan protección integral, extendiendo la vida útil del sustrato y mejoran el rendimiento.


Propiedades físicas básicas del recubrimiento SIC CVD:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE

Propiedades físicas básicas del recubrimiento SIC CVD
Propiedad Valor típico
Estructura cristalina FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111)
Densidad 3,21 g/cm³
Dureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g)
Tamaño de grano 2 ~ 10 mm
Pureza química 99,99995%
Capacidad calorífica 640 j · kg-1· K-1
Temperatura de sublimación 2700 ℃
Resistencia a la flexión 415 MPA RT 4 puntos
Módulo de Young 430 GPA 4PT Bend, 1300 ℃
Conductividad térmica 300W · m-1· K-1
Expansión Térmica (CTE) 4.5 × 10-6K-1


Tiendas de producción:

VeTek Semiconductor Production Shop


Descripción general de la cadena industrial de la epitaxia de chip de semiconductores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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