Susceptor de grafito recubierto de SiC para ASM

Información general del producto

Términos comerciales del producto

✔ Aplicación: El sustrato de grafito recubierto de SiC de Veteksemicon es un consumible clave para los equipos epitaxiales de la serie ASM. Soporta directamente la oblea y proporciona un campo térmico uniforme y estable durante la epitaxia a alta temperatura, lo que la convierte en un componente central para garantizar el crecimiento de alta calidad de materiales semiconductores avanzados como GaN y SiC.

✔ Servicios que se pueden brindar: análisis de escenarios de aplicación del cliente, combinación de materiales, resolución de problemas técnicos. 

✔Perfil de empresa：Veteksemicon cuenta con 2 laboratorios, un equipo de expertos con 20 años de experiencia en materiales, con capacidades de I+D y producción, pruebas y verificación.

Parámetros técnicos

Susceptor de grafito recubierto de SiC Veteksemicon para ventajas centrales de ASM

1. Pureza extrema y baja tasa de defectos

Utilizando un sustrato de grafito especial de alta pureza y grado de partículas finas, combinado con nuestro proceso de recubrimiento por deposición química de vapor (CVD) estrictamente controlado, garantizamos que el recubrimiento sea denso, libre de poros y de impurezas. Esto reduce significativamente el riesgo de contaminación por partículas durante el proceso epitaxial, proporcionando un entorno de sustrato limpio para el crecimiento de capas epitaxiales de alta calidad.

2. Excelente resistencia a la corrosión y al desgaste.

El recubrimiento de carburo de silicio pirolítico posee una dureza e inercia química extremadamente altas, resistiendo eficazmente la erosión de fuentes de silicio (como SiH4, SiHCl3), fuentes de carbono (como C3H8) y gases de grabado (como HCl, H2) a altas temperaturas. Esto extiende significativamente el ciclo de mantenimiento de la base y reduce el tiempo de inactividad de la máquina causado por el reemplazo de componentes.

3. Excelente uniformidad térmica y estabilidad.

Optimizamos la distribución del campo térmico dentro del rango de temperatura de funcionamiento mediante un diseño preciso de la estructura del sustrato y un control del espesor del recubrimiento. Esto se traduce directamente en una excelente uniformidad de espesor y resistividad en la oblea epitaxial, lo que contribuye a mejorar el rendimiento de fabricación del chip.

4. Excelente fuerza de adhesión del recubrimiento

La exclusiva tecnología de pretratamiento de superficie y recubrimiento en gradiente permite que el recubrimiento de carburo de silicio forme una fuerte capa de unión con el sustrato de grafito, lo que previene eficazmente los problemas de desprendimiento, descamación o agrietamiento del recubrimiento que pueden ocurrir durante el ciclo térmico a largo plazo.

5. Tamaño preciso y replicación estructural.

Poseemos capacidades maduras de prueba y mecanizado CNC, lo que nos permite replicar completamente la geometría compleja, las dimensiones de la cavidad y las interfaces de montaje de la base original, garantizando una combinación perfecta y una funcionalidad plug-and-play con la plataforma del cliente.

6. Aval de verificación de la cadena ecológica

El susceptor de grafito recubierto de SiC de Veteksemicon para la verificación de la cadena ecológica de ASM abarca desde las materias primas hasta la producción, ha pasado la certificación estándar internacional y tiene una serie de tecnologías patentadas para garantizar su confiabilidad y sostenibilidad en los campos de semiconductores y nuevas energías.

Para obtener especificaciones técnicas detalladas, documentos técnicos o arreglos de prueba de muestra, comuníquese con nuestro equipo de soporte técnico para explorar cómo Veteksemicon puede mejorar la eficiencia de su proceso.

Principales campos de aplicación

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