Cabezal de ducha sólido en forma de disco

El papel del cabezal de ducha sólido en forma de disco SIC en el proceso de CVD es distribuir uniformemente el gas de reacción por encima del área de deposición para que el gas pueda difundirse uniformemente en todo el reactor para obtener una película plana y uniforme.

El cabezal de ducha SIC sólido se coloca en la parte superior del horno CVD o cerca de la entrada de gas. El gas de reacción ingresa a la estructura en forma de disco a través de los agujeros distribuidos en el cabezal de la ducha y se difunde a lo largo de la superficie del cabezal de la ducha. A través del diseño de canales múltiples y las salidas distribuidas uniformemente, el gas de reacción puede fluir uniformemente a toda el área del reactor, evitando la concentración o la turbulencia, y garantizando la consistencia del grosor de la capa depositada en el sustrato.

Al mismo tiempo, la estructura del cabezal de ducha de forma del disco semiconductor también tiene un efecto de difusión, que puede reducir efectivamente la velocidad de flujo del gas, para que pueda difundirse uniformemente en la salida de la boquilla y reducir el impacto de los cambios en el flujo de gas local en el efecto de deposición. Ayuda a evitar el impacto directo en el gas en el sustrato y prevenir el problema de la deposición desigual.

Desde la perspectiva de los materiales, el cabezal de ducha de gas SiC sólido está hecho de material SiC sólido resistente a alta temperatura, resistente a la corrosión y de alta resistencia con muy alta estabilidad. Puede funcionar de manera estable durante mucho tiempo en el horno CVD y tiene una larga vida útil.

Vetek Semiconductor ofrece servicios personalizados de alta calidad. La forma y el diseño del agujero del cabezal de ducha en forma de disco SIC sólido se pueden ajustar de manera flexible de acuerdo con los requisitos del proceso del cliente para adaptarse a diferentes tipos de gas, caudales y materiales de deposición. Para diferentes tamaños de reactores o tamaños de sustrato, se pueden personalizar cabezales de ducha en forma de disco con diferentes diámetros y distribuciones de agujeros para optimizar el efecto de distribución de gas.

Vetek Semiconductor tiene procesos maduros y tecnologías avanzadas para productos de cabeza de ducha de semiconductores SIC sólidos, lo que ayuda a un gran número de clientes a lograr un progreso continuo en los procesos de ECV. El semiconductor de Vetek espera convertirse en su socio a largo plazo en China.

Propiedades físicas de sic sic

Es semiconductorTiendas de producción de ducha sólida en forma de disco SIC