Anillo de enfoque de carburo de silicio

Información general del producto

Términos comerciales del producto

Solicitud: En los procesos de grabado en seco de semiconductores, el anillo de enfoque es un componente clave que garantiza la uniformidad del proceso. Rodea firmemente la oblea y, al controlar con precisión la distribución del plasma en los bordes de la oblea, determina directamente la uniformidad y consistencia del proceso de grabado, lo que lo convierte en una parte indispensable para garantizar el rendimiento del chip.

Servicios que se pueden proporcionar: análisis de escenarios de aplicaciones del cliente, combinación de materiales, resolución de problemas técnicos.

Perfil de la empresa: Veteksemicon tiene 2 laboratorios, un equipo de expertos con 20 años de experiencia en materiales, con capacidades de I+D y producción, pruebas y verificación.

Parámetros técnicos

Ventajas principales del anillo de enfoque mi rival

1. Ciencia de materiales excepcional, creada para entornos hostiles

Nuestro material seleccionado de carburo de silicio de alta pureza y alta densidad puede resistir fácilmente el intenso bombardeo de plasma y la corrosión de gases químicos que contienen flúor durante el proceso de grabado de SiC. Su excelente resistencia a la corrosión se traduce directamente en una vida útil más larga y una menor frecuencia de reemplazo de componentes, lo que no solo reduce el tiempo de inactividad del equipo sino que también reduce significativamente el riesgo de contaminación por partículas causada por el desgaste de los componentes, lo que le brinda una rentabilidad integral estable y a largo plazo.

2. El diseño de ingeniería preciso garantiza un proceso consistente

Cada anillo de enfoque Veteksemicon se somete a un mecanizado CNC de ultraprecisión para garantizar que las dimensiones clave, como la planitud, el diámetro interior y la altura del escalón, alcancen una precisión a nivel de micras, lo que garantiza una combinación perfecta con el fabricante de equipos originales (OEM). Nuestro equipo de ingeniería optimiza aún más el perfil mediante simulación de plasma. Este diseño guía eficazmente el campo eléctrico, reduciendo el grabado anormal en los bordes de la oblea y controlando así la uniformidad del grabado de toda la oblea a un nivel extremo.

3. El rendimiento confiable mejora la eficiencia de la producción

En entornos exigentes de producción en masa, se obtiene todo el valor de nuestros productos. Al garantizar una distribución de plasma concentrada y estable, el anillo de enfoque Veteksemicon contribuye directamente a mejorar la uniformidad de la tasa de grabado y optimizar la repetibilidad del proceso entre lotes. Esto significa que su línea de producción puede ofrecer constantemente productos de alto rendimiento y, al mismo tiempo, beneficiarse de ciclos de mantenimiento más prolongados, lo que reduce de manera efectiva los costos de consumibles por oblea y le brinda una ventaja competitiva significativa.

4. Aval de verificación de la cadena ecológica

La verificación de la cadena ecológica de Veteksemicon focus ring abarca desde las materias primas hasta la producción, ha pasado la certificación estándar internacional y tiene una serie de tecnologías patentadas para garantizar su confiabilidad y sostenibilidad en los campos de semiconductores y nuevas energías.

Para obtener especificaciones técnicas detalladas, documentos técnicos o arreglos de prueba de muestra, comuníquese con nuestro equipo de soporte técnico para explorar cómo Veteksemicon puede mejorar la eficiencia de su proceso.

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