Portador de obleas de recubrimiento sic

Vetek Semiconductor se especializa en la fabricación y el suministro de operadores de obleas de recubrimiento SIC de alto rendimiento y se compromete a proporcionar tecnología avanzada y soluciones de productos a la industria de semiconductores.

En la fabricación de semiconductores, el portador de obleas de recubrimiento SIC de semiconductores de Vetek es un componente clave en el equipo de deposición de vapor químico (CVD), especialmente en el equipo de depósito de vapor químico orgánico metálico (MOCVD). Su tarea principal es soportar y calentar el sustrato de cristal único para que la capa epitaxial pueda crecer de manera uniforme. Esto es esencial para fabricar dispositivos semiconductores de alta calidad.

La resistencia a la corrosión del recubrimiento SIC es muy buena, lo que puede proteger efectivamente la base de grafito de los gases corrosivos. Esto es especialmente importante en entornos de alta temperatura y corrosivo. Además, la conductividad térmica del material SiC también es muy excelente, lo que puede realizar un calor uniformemente y garantizar una distribución de temperatura uniforme, mejorando así la calidad de crecimiento de los materiales epitaxiales.

El recubrimiento SIC mantiene la estabilidad química en una atmósfera a alta temperatura y corrosiva, evitando el problema de la falla del recubrimiento. Más importante aún, el coeficiente de expansión térmica de SIC es similar al del grafito, lo que puede evitar el problema del desprendimiento de recubrimiento debido a la expansión y contracción térmica, y garantizar la estabilidad y confiabilidad a largo plazo del recubrimiento.

Propiedades físicas básicas dePortador de obleas de recubrimiento sic:

Tienda de producción:

Descripción general de la cadena industrial de epitaxia de chip de semiconductores: