Chucks de cerámica sic porosa

Los chucks de cerámica SIC poros ofrecidos por Veteksemicon están hechos de carburo de silicio poroso (SIC) de alta pureza, este chuck de cerámica garantiza un flujo de gas uniforme, una excelente planitud y estabilidad térmica en condiciones de alta vacío y temperatura. Es ideal para sistemas de sujeción de vacío, donde el manejo de obleas sin contacto sin partículas es crítico.

Ⅰ. Propiedades clave del material y beneficios de rendimiento

1. Excelente conductividad térmica y resistencia a la temperatura

El carburo de silicio ofrece una alta conductividad térmica (120–200 w/m · k) y puede soportar temperaturas de funcionamiento superiores a 1600 ° C, lo que hace que el chuck sea ideal para el grabado en plasma, el procesamiento del haz de iones y los procesos de depósito de alta temperatura.

FOY: Asegura la disipación de calor uniforme, reduciendo la deformación de la oblea y mejorando la uniformidad del proceso.

2. Resistencia mecánica y resistencia al desgaste superior

La densa microestructura de SIC le da al Chuck Dureza excepcional (> 2000 HV) y una durabilidad mecánica, esencial para repetir los ciclos de carga/descarga de obleas y entornos de procesos duros.

FOY: Prolonga la vida útil del Chuck mientras mantiene la estabilidad dimensional y la precisión de la superficie.

3. Porosidad controlada para la distribución de vacío uniforme

La estructura porosa finamente ajustada de la cerámica permite una succión de vacío constante a través de la superficie de la oblea, lo que garantiza la colocación segura de la oblea con una contaminación mínima de partículas.

Bol: mejora la compatibilidad de la sala limpia y garantiza el procesamiento de obleas sin daños.

4. Excelente resistencia química

La inercia de SIC a los gases corrosivos y los ambientes plasmáticos protege al fuck de la degradación durante el grabado de iones reactivos o la limpieza química.

FOLO: Minimiza el tiempo de inactividad y la frecuencia de limpieza, reduciendo el costo operativo.

Ⅱ. Servicios de personalización y soporte de Veteksemicon

En Veteksemicon, proporcionamos un espectro completo de servicios a medida para satisfacer las exigentes demandas de los fabricantes de semiconductores:

● Diseño personalizado de geometría y tamaño de poro: Ofrecemos Chucks en varios tamaños, espesores y densidades de poros personalizadas para las especificaciones de su equipo y los requisitos de vacío.

● Prototipos rápidos de respuesta: Tiempos de entrega cortos y soporte de producción de baja MOQ para I + D y líneas piloto.

● Servicio de presentación confiable: Desde la guía de instalación hasta el monitoreo del ciclo de vida, aseguramos la estabilidad del rendimiento a largo plazo y el soporte técnico.

Ⅲ. Aplicaciones

● Equipo de grabado y procesamiento de plasma

● Implantación de iones y cámaras de recocido

● Sistemas de pulido mecánico químico (CMP)

● Plataformas de metrología e inspección

● Sistemas de retención de vacío y sujeción en entornos de sala limpia

Tienda de productos VekeKemeicon: