Código QR

Sobre nosotros
Productos
Contáctenos
Teléfono
Fax
+86-579-87223657
Correo electrónico
DIRECCIÓN
Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, ciudad de Jinhua, provincia de Zhejiang, China
Los hornos de oxidación y difusión se utilizan en varios campos, como dispositivos semiconductores, dispositivos discretos, dispositivos optoelectrónicos, dispositivos electrónicos de energía, células solares y fabricación de circuitos integrados a gran escala. Se utilizan para procesos que incluyen difusión, oxidación, recocido, aleación y sinterización de obleas.
Vetek Semiconductor es un fabricante líder especializado en la producción de grafito de alta pureza, carburo de silicio y componentes de cuarzo en hornos de oxidación y difusión. Estamos comprometidos a proporcionar componentes de horno de alta calidad para las industrias semiconductores y fotovoltaicas, y estamos a la vanguardia de la tecnología de recubrimiento de superficie, como CVD-SIC, CVD-TAC, Pyrocarbon, etc.
● Resistencia de alta temperatura (hasta 1600 ℃)
● Excelente conductividad térmica y estabilidad térmica
● Buena resistencia a la corrosión química
● Bajo coeficiente de expansión térmica
● Alta fuerza y dureza
● Larga vida útil
En hornos de oxidación y difusión, debido a la presencia de gases de alta temperatura y corrosivos, muchos componentes requieren el uso de materiales a alta temperatura y resistentes a la corrosión, entre los cuales el carburo de silicio (SIC) es una opción de uso común. Los siguientes son componentes comunes de carburo de silicio que se encuentran en hornos de oxidación y hornos de difusión:
● Barco de obleas
El bote de obleas de carburo de silicio es un recipiente utilizado para transportar obleas de silicio, que pueden soportar altas temperaturas y no reaccionará con obleas de silicio.
● Tubo de horno
El tubo del horno es el componente central del horno de difusión, utilizado para acomodar obleas de silicio y controlar el entorno de reacción. Los tubos del horno de carburo de silicio tienen un excelente rendimiento de resistencia a la alta temperatura y a alta temperatura.
● Placa de deflectación
Se utiliza para regular el flujo de aire y la distribución de temperatura dentro del horno
● Tubo de protección de termopar
Se utiliza para proteger los termopares de medición de la temperatura del contacto directo con gases corrosivos.
● Paleta en voladizo
Las paletas en voladizo de carburo de silicio son resistentes a la alta temperatura y la corrosión, y se utilizan para transportar barcos de silicio o botes de cuarzo que transportan obleas de silicio a los tubos de horno de difusión.
● Inyector de gas
Utilizado para introducir gas de reacción en el horno, debe ser resistente a la alta temperatura y la corrosión.
● Carrera de botes
El transportador de barcos de oblea de carburo de silicio se utiliza para arreglar y soportar obleas de silicio, que tienen ventajas como alta resistencia, resistencia a la corrosión y buena estabilidad estructural.
● Puerta del horno
Los recubrimientos o componentes de carburo de silicio también se pueden usar en el interior de la puerta del horno.
● Elemento de calefacción
Los elementos de calefacción de carburo de silicio son adecuados para altas temperaturas, alta potencia y pueden aumentar rápidamente las temperaturas a más de 1000 ℃.
● Liner Sic
Utilizado para proteger la pared interna de los tubos de horno, puede ayudar a reducir la pérdida de energía térmica y resistir ambientes hostiles, como alta temperatura y alta presión.
Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.
Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.
Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.
For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.
+86-579-87223657
Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, ciudad de Jinhua, provincia de Zhejiang, China
Copyright © 2024 Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd. Todos los derechos reservados.
Links | Sitemap | RSS | XML | Privacy Policy |