Susceptor recubierto de SiC MOCVD

Parámetros técnicos

ESTRUCTURA CRISTALINA DE PELÍCULA CVD SIC

Definición y composición del producto

El susceptor recubierto de SiC VETEK MOCVD es un componente portador de obleas de primera calidad diseñado específicamente para el procesamiento epitaxial de semiconductores de tercera generación, como GaN y SiC. Este producto integra las propiedades físicas superiores de dos materiales de alto rendimiento:

Sustrato de grafito de alta pureza: Fabricado con tecnología de prensado isostático para garantizar que el material base posea una integridad estructural excepcional, alta densidad y estabilidad de procesamiento térmico.

Recubrimiento CVD SiC: Una capa protectora densa y libre de estrés de carburo de silicio (SiC) se desarrolla sobre la superficie del grafito mediante tecnología avanzada de deposición química de vapor (CVD).

Por qué VETEK es su garantía de rendimiento

Máxima precisión en control de uniformidad térmica: A diferencia de los portadores convencionales, los susceptores VETEK logran una transferencia de calor altamente sincronizada en toda la superficie mediante un control de precisión a escala nanométrica del espesor del recubrimiento y la resistencia térmica. Esta sofisticada gestión térmica minimiza eficazmente la desviación estándar de la longitud de onda (STD) en la superficie de la oblea, lo que mejora significativamente tanto la calidad de una sola oblea como la consistencia general del lote.

Protección a largo plazo con cero contaminación de partículas: En las cámaras de reacción MOCVD que contienen gases altamente corrosivos, los pedestales de grafito ordinarios son propensos a la descamación de partículas. El recubrimiento CVD SiC de VETEK posee una inercia química excepcional, actuando como un escudo impenetrable que sella los microporos de grafito. Esto asegura el aislamiento total de las impurezas del sustrato, evitando cualquier contaminación de las capas epitaxiales de GaN o SiC.

Excepcional resistencia a la fatiga y vida útil:Gracias al proceso de tratamiento de interfaz patentado de VETEK, nuestro recubrimiento de SiC logra una expansión térmica optimizada que coincide con el sustrato de grafito. Incluso bajo ciclos térmicos de alta frecuencia entre temperaturas extremas, el recubrimiento mantiene una adhesión superior sin pelarse ni desarrollar microfisuras. Esto reduce significativamente la frecuencia del mantenimiento de repuestos y reduce el costo total de propiedad.

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