Materia prima CVD SIC de alta pureza

Deal SemiconontorMateria prima de un solo cristal sic- Materia prima CVD SIC de alta pureza. Este producto llena el vacío nacional y también está en el nivel principal a nivel mundial, y estará en una posición de liderazgo a largo plazo en la competencia. Las materias primas tradicionales de carburo de silicio se producen mediante la reacción de silicio de alta pureza ygrafito, que tienen un costo alto, bajo en pureza y de tamaño pequeño. 

VeTek Semiconductor's fluidized bed technology uses methyltrichlorosilane to generate silicon carbide raw materials through chemical vapor deposition, and the main by-product is hydrochloric acid. El ácido clorhídrico puede formar sales neutralizándose con álcali, y no causará ninguna contaminación al medio ambiente. At the same time, methyltrichlorosilane is a widely used industrial gas with low cost and wide sources, especially China is the main producer of methyltrichlorosilane. Therefore, VeTek Semiconductor's High purity CVD SiC raw material has international leading competitiveness in terms of cost and quality.The purity of High purity CVD SiC raw material is higher than99.9995%.

Ventajas de materia prima CVD SIC de alta pureza

 ● Gran tamaño y alta densidad

El tamaño promedio de partícula es de aproximadamente 4-10 mm, y el tamaño de partícula de las materias primas domésticas de Acheson es <2.5 mm. El mismo crisol de volumen puede contener más de 1,5 kg de materias primas, lo cual es propicio para resolver el problema del suministro insuficiente de materiales de crecimiento de cristales de gran tamaño, aliviando la grafitización de las materias primas, reduciendo el envoltura de carbono y la mejora de la calidad del cristal.

 ●Baja relación si/c

Está más cerca de 1: 1 que las materias primas Acheson del método de autopropagación, lo que puede reducir los defectos inducidos por el aumento de la presión parcial de Si.

 ●Alto valor de salida

Las materias primas cultivadas aún mantienen el prototipo, reducen la recristalización, reducen la grafitización de las materias primas, reducen los defectos de envoltura de carbono y mejoran la calidad de los cristales.

● Mayor pureza

La pureza de las materias primas producidas por el método CVD es mayor que la de las materias primas Acheson del método de autopropagación. El contenido de nitrógeno ha alcanzado 0.09ppm sin purificación adicional. Esta materia prima también puede desempeñar un papel importante en el campo semi-aislante.

● Costo más bajo

La tasa de evaporación uniforme facilita el control del proceso y la calidad del producto, al tiempo que mejora la tasa de utilización de las materias primas (tasa de utilización> 50%, 4.5 kg de materias primas producen 3.5 kg lingotes), reduciendo los costos.

 ●Baja tasa de error humano

La deposición de vapor químico evita las impurezas introducidas por la operación humana.

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