CVD TAC Cubro Crisol

El susceptor de rotación de recubrimiento de TAC juega un papel clave en los procesos de alta deposición de temperatura, como CVD y MBE, y es un componente importante para el procesamiento de obleas en la fabricación de semiconductores. Entre ellos,Recubrimiento TACTiene una excelente resistencia a la temperatura, resistencia a la corrosión y estabilidad química, lo que garantiza una alta precisión y alta calidad durante el procesamiento de obleas.

CVD TAC Cubir el crisol generalmente consiste en recubrimiento TAC ygrafitosustrato. Entre ellos, TAC es un material cerámico de alto punto de fusión con un punto de fusión de hasta 3880 ° C. Tiene dureza extremadamente alta (dureza de Vickers hasta 2000 HV), resistencia a la corrosión química y resistencia a la oxidación fuerte. Por lo tanto, el recubrimiento TAC es un excelente material resistente a la alta temperatura en la tecnología de procesamiento de semiconductores.

El sustrato de grafito tiene una buena conductividad térmica (la conductividad térmica es de aproximadamente 21 w/m · k) y excelente estabilidad mecánica. Esta característica determina que el grafito se convierte en un recubrimiento ideal.sustrato.

El crisol de recubrimiento CVD TAC se utiliza principalmente en las siguientes tecnologías de procesamiento de semiconductores:

Fabricación de obleas: Vetek semiconductor CVD TAC Cubrible El crisol tiene una excelente resistencia a la temperatura (punto de fusión de hasta 3880 ° C) y resistencia a la corrosión, por lo que a menudo se usa en procesos de fabricación de obleas clave, como depósito de vapor de alta temperatura (CVD) y crecimiento epitaxial. Combinado con la excelente estabilidad estructural del producto en entornos de temperatura ultra alta, asegura que el equipo pueda operar de manera estable durante mucho tiempo en condiciones extremadamente duras, mejorando de manera efectiva la eficiencia de producción y la calidad de las obleas.

Proceso de crecimiento epitaxial: En procesos epitaxiales comoDeposición de vapor químico (CVD)y la epitaxia del haz molecular (MBE), el crisol de revestimiento CVD TAC juega un papel clave en el transporte. Su recubrimiento TAC no solo puede mantener la alta pureza del material a temperatura extrema y atmósfera corrosiva, sino también evitar efectivamente la contaminación de los reactivos en el material y la corrosión del reactor, asegurando la precisión del proceso de producción y la consistencia del producto.

Como el principal fabricante y líder de crises CVD TAC de China, Vetek Semiconductor puede proporcionar productos y servicios técnicos personalizados de acuerdo con los requisitos de su equipo y proceso. Esperamos sinceramente convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Recubrimiento de carburo tantalum (TAC) en una sección transversal microscópica：

Propiedades físicas del recubrimiento TAC：

Es semiconductor CVD TAC Cubro de crisolas: