Susceptor de panqueques SIC CVD

Es semiconductor El susceptor de panqueques SIC CVD se fabrica utilizando la última tecnología de deposición de vapor químico (CVD) para garantizar una excelente durabilidad y adaptabilidad extrema de la temperatura. Las siguientes son sus principales propiedades físicas:

● Estabilidad térmica: La alta estabilidad térmica de CVD SIC garantiza un rendimiento estable en condiciones de alta temperatura.

● Bajo coeficiente de expansión térmica: El material tiene un coeficiente de expansión térmica extremadamente bajo, que minimiza la deformación y la deformación causadas por los cambios de temperatura.

● Resistencia a la corrosión química: Excelente resistencia química le permite mantener un alto rendimiento en una variedad de entornos duros.

Soporte preciso y transferencia de calor optimizada

El recubierto de SIC basado en Pancake susceptor de Veteksemi está diseñado para acomodar obleas semiconductores y proporcionar un excelente apoyo durante la deposición epitaxial. El susceptor de panqueques SIC está diseñado utilizando tecnología de simulación computacional avanzada para minimizar la deformación y la deformación en diferentes condiciones de temperatura y presión. Su coeficiente típico de expansión térmica es de aproximadamente 4.0 × 10^-6/° C, lo que significa que su estabilidad dimensional es significativamente mejor que los materiales tradicionales en entornos de alta temperatura, asegurando así la consistencia del grosor de la oblea (típicamente de 200 mm a 300 mm).

Además, el susceptor de panqueques CVD sobresale en la transferencia de calor, con una conductividad térmica de hasta 120 w/m · k. Esta alta conductividad térmica puede realizar un calor rápida y efectiva, mejorar la uniformidad de la temperatura dentro del horno, garantizar una distribución de calor uniforme durante la deposición epitaxial y reducir los defectos de deposición causados ​​por el calor desigual. El rendimiento optimizado de la transferencia de calor es fundamental para mejorar la calidad de la deposición, lo que puede reducir efectivamente las fluctuaciones de procesos y mejorar el rendimiento.

A través de estas optimizaciones de diseño y rendimiento, el susceptor de panqueques CVD SIC de Vetek Semiconductor proporciona una base sólida para la fabricación de semiconductores, garantizando la confiabilidad y la consistencia en condiciones de procesamiento duras y cumpliendo con los requisitos estrictos de la industria de semiconductores modernos para una alta precisión y calidad.

Estructura cristalina de película sic cvd

Propiedades físicas básicas del recubrimiento SIC CVD

Propiedades físicas básicas del recubrimiento SIC CVD
Propiedad	Valor típico
Estructura cristalina	Policristalina de fase β FCC, principalmente (111) orientada
Densidad	3.21 g/cm³
Dureza	2500 Vickers Dureza （500 g de carga）
Tamaño de grano	2 ~ 10 mm
Pureza química	99.99995%
Capacidad de calor	640 j · kg-1· K-1
Temperatura de sublimación	2700 ℃
Resistencia a la flexión	415 MPA RT 4 puntos
Módulo de Young	430 GPA 4PT Bend, 1300 ℃
Conductividad térmica	300W · m-1· K-1
Expansión térmica (CTE)	4.5 × 10-6K-1