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Carburo de silicio sólido

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Sic Crystal Growth New Technology

Sic Crystal Growth New Technology

El carburo de silicio de pureza ultra alta de Vetek Semiconductor (SIC) formado por deposición química de vapor (CVD) se recomienda para usar como material fuente para crecer los cristales de carburo de silicio por transporte físico de vapor (PVT). En la nueva tecnología del crecimiento de cristal SIC, el material fuente se carga en un crisol y sublimado en un cristal de semillas. Use los bloques CVD-SIC de alta pureza para ser una fuente para el crecimiento de los cristales SIC. Bienvenido para establecer una asociación con nosotros.
Cabezal de ducha sic cvd

Cabezal de ducha sic cvd

Vetek Semiconductor es un principal fabricante e innovador de la cabeza de ducha CVD SIC en China. Hemos sido especializados en material SIC durante muchos años. CVD SIC La cabeza de la ducha se elige como material de anillo de enfoque debido a su excelente estabilidad termoquímica, alta resistencia mecánica y resistencia a la erosión plasmática. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Cabeza de ducha sic

Cabeza de ducha sic

Vetek Semiconductor es un fabricante e innovador líder de la cabeza de ducha SIC en China. Hemos sido especializados en material sic durante muchos años. La cabeza de la ducha SIC se elige como un material de anillo de enfoque debido a su excelente estabilidad termoquímica, alta resistencia mecánica y resistencia a la erosión del plasma. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Susceptor de barril recubierto de SiC para LPE PE2061S

Susceptor de barril recubierto de SiC para LPE PE2061S

Como una de las principales plantas de fabricación de susceptores de obleas en China, el semiconductor Vetek ha progresado continuamente en los productos de susceptores de obleas y se ha convertido en la primera opción para muchos fabricantes de obleas epitaxiales. El susceptor de barril recubierto de SIC para LPE PE2061 proporcionado por Vetek Semiconductor está diseñado para obleas LPE PE2061s 4 ''. El susceptor tiene un recubrimiento duradero de carburo de silicio que mejora el rendimiento y la durabilidad durante el proceso de LPE (epitaxia de fase líquida). Dé la bienvenida a su consulta, esperamos convertirnos en su socio a largo plazo.
Cabezal de ducha de gas SiC sólido

Cabezal de ducha de gas SiC sólido

El cabezal de ducha de gas de SiC sólido desempeña un papel importante a la hora de uniformar el gas en el proceso CVD, garantizando así un calentamiento uniforme del sustrato. VeTek Semiconductor ha estado profundamente involucrado en el campo de los dispositivos de SiC sólido durante muchos años y puede ofrecer a los clientes cabezales de ducha de gas de SiC sólido personalizados. No importa cuáles sean sus requisitos, esperamos su consulta.
Proceso de deposición de vapor químico anillo de borde sic sólido

Proceso de deposición de vapor químico anillo de borde sic sólido

El semiconductor Vetek siempre se ha comprometido con la investigación y el desarrollo y la fabricación de materiales semiconductores avanzados. Hoy, el semiconductor Vetek ha logrado un gran progreso en el proceso de deposición de vapor químico en productos de anillo de borde sic sic y puede proporcionar a los clientes anillos de borde sic sólidos altamente personalizados. Los anillos de borde SiC sólido proporcionan una mejor uniformidad de grabado y un posicionamiento preciso de la oblea cuando se usan con un chuck electrostático, asegurando resultados de grabado consistentes y confiables. Esperamos su consulta y convirtiéndose en los socios a largo plazo del otro.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


Como fabricante y proveedor profesional Carburo de silicio sólido en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Carburo de silicio sólido avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
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