Productos

Carburo de silicio sólido

View as  
 
Cabezal de ducha de carburo de silicio

Cabezal de ducha de carburo de silicio

El cabezal de ducha de carburo de silicio tiene una excelente tolerancia a alta temperatura, estabilidad química, conductividad térmica y buen rendimiento de distribución de gases, que pueden lograr una distribución uniforme de gas y mejorar la calidad de la película. Por lo tanto, generalmente se usa en procesos de alta temperatura, como la deposición de vapor químico (CVD) o los procesos de deposición de vapor físico (PVD). Dé la bienvenida a su consulta adicional, Semiconductor Vetek.
Anillo de sello de carburo de silicio

Anillo de sello de carburo de silicio

Como fabricante de productos y fábricas profesionales de anillo de sellado de carburo de silicio en China, el anillo de sello de carburo de silicio de semiconductores vetek se usa ampliamente en equipos de procesamiento de semiconductores debido a su excelente resistencia al calor, resistencia a la corrosión, resistencia mecánica y conductividad térmica. Es especialmente adecuado para procesos que involucran alta temperatura y gases reactivos como ECV, PVD y grabado en plasma, y ​​es una opción de material clave en el proceso de fabricación de semiconductores. Sus nuevas consultas son bienvenidas.
Susceptor RTP recubierto de SiC CVD

Susceptor RTP recubierto de SiC CVD

El susceptor RTP recubierto de CVD SiC de VeTek Semiconductor sirve para equipos de procesamiento térmico rápido (RTP) y recocido térmico rápido (RTA) utilizados en la fabricación de semiconductores. El sustrato se mecaniza a partir de grafito isostático de alta pureza, sobre el cual se deposita una densa capa de carburo de silicio (SiC) CVD. Esta construcción produce una alta conductividad térmica, una sólida inercia química y una estabilidad dimensional sostenida bajo ciclos repetidos de alta temperatura.
Bloque SIC CVD para el crecimiento de cristal SIC

Bloque SIC CVD para el crecimiento de cristal SIC

El bloque CVD SIC para el crecimiento de cristal SIC, es una nueva materia prima de alta pureza desarrollada por Vetek Semiconductor. Tiene una alta relación de entrada-salida y puede cultivar cristales individuales de carburo de silicio de alta calidad y gran tamaño, que es un material de segunda generación para reemplazar el polvo utilizado en el mercado hoy en día. Bienvenido para discutir temas técnicos.
Sic Crystal Growth New Technology

Sic Crystal Growth New Technology

El carburo de silicio de pureza ultra alta de Vetek Semiconductor (SIC) formado por deposición química de vapor (CVD) se recomienda para usar como material fuente para crecer los cristales de carburo de silicio por transporte físico de vapor (PVT). En la nueva tecnología del crecimiento de cristal SIC, el material fuente se carga en un crisol y sublimado en un cristal de semillas. Use los bloques CVD-SIC de alta pureza para ser una fuente para el crecimiento de los cristales SIC. Bienvenido para establecer una asociación con nosotros.
Cabezal de ducha sic cvd

Cabezal de ducha sic cvd

Vetek Semiconductor es un principal fabricante e innovador de la cabeza de ducha CVD SIC en China. Hemos sido especializados en material SIC durante muchos años. CVD SIC La cabeza de la ducha se elige como material de anillo de enfoque debido a su excelente estabilidad termoquímica, alta resistencia mecánica y resistencia a la erosión plasmática. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


X
Utilizamos cookies para ofrecerle una mejor experiencia de navegación, analizar el tráfico del sitio y personalizar el contenido. Al utilizar este sitio, acepta nuestro uso de cookies.política de privacidad
RechazarAceptar