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Vetek semiconductor de silicio sólido El carburo es un componente cerámico importante en el equipo de grabado en plasma, carburo de silicio sólido (Carburo de silicio CVD) Las piezas en el equipo de grabado incluyenanillos de enfoque, cabezal de ducha de gas, bandeja, anillos de borde, etc. Debido a la baja reactividad y conductividad del carburo de silicio sólido (carburo de silicio CVD) a los gases de grabado que contienen cloro, y que contienen flúor, es un material ideal para equipos de grabado en plasma y otros componentes.
Por ejemplo, el anillo de enfoque es una parte importante colocada fuera de la oblea y en contacto directo con la oblea, aplicando un voltaje al anillo para enfocar el plasma que pasa a través del anillo, enfocando así el plasma en la oblea para mejorar la uniformidad del procesamiento. El anillo de enfoque tradicional está hecho de silicio ocuarzo, El silicio conductivo como material de anillo de enfoque común, está casi cerca de la conductividad de las obleas de silicio, pero la escasez es una resistencia de grabado deficiente en el plasma que contiene flúor, los materiales de piezas de las máquinas de grabado a menudo utilizadas durante un período de tiempo, habrá un fenomenón de corrosión grave, reduciendo seriamente su eficiencia de producción.
Sanillo de enfoque sic sicPrincipio de trabajo:
Comparación del anillo de enfoque basado en SI y el anillo de enfoque de CVD SIC:
Comparación del anillo de enfoque basado en SI y el anillo de enfoque CVD SIC | ||
Artículo | Y | CVD sic |
Densidad (g/cm3) | 2.33 | 3.21 |
Band Gap (EV) | 1.12 | 2.3 |
Conductividad térmica (w/cm ℃) | 1.5 | 5 |
CTE (x10-6/℃) | 2.6 | 4 |
Módulo elástico (GPA) | 150 | 440 |
Dureza (GPA) | 11.4 | 24.5 |
Resistencia al desgaste y la corrosión | Pobre | Excelente |
Vetek Semiconductor ofrece piezas avanzadas de carburo de silicio sólido (carburo de silicio CVD) como anillos de enfoque SIC para equipos de semiconductores. Nuestros anillos de enfoque de carburo de silicio sólido superan al silicio tradicional en términos de resistencia mecánica, resistencia química, conductividad térmica, durabilidad de alta temperatura y resistencia al grabado de iones.
Alta densidad para tasas de grabado reducidas.
Excelente aislamiento con un alto bandero de banda.
Alta conductividad térmica y bajo coeficiente de expansión térmica.
Resistencia y elasticidad de impacto mecánico superior.
Alta dureza, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión.
Fabricado conDeposición de vapor químico mejorado por plasma (PECVD)Técnicas, nuestros anillos de enfoque SIC satisfacen las crecientes demandas de los procesos de grabado en la fabricación de semiconductores. Están diseñados para soportar una mayor potencia y energía en plasma, específicamente enPlasma acoplado (CCP) capacitivamente acopladosistemas.
Los anillos de enfoque SIC de Vetek Semiconductor proporcionan un rendimiento y confiabilidad excepcionales en la fabricación de dispositivos de semiconductores. Elija nuestros componentes SIC para obtener una calidad y eficiencia superiores.
Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.
Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.
Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.
To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.
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