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Epitaxia de silicio

La epitaxia de silicio, EPI, epitaxia, epitaxial se refiere al crecimiento de una capa de cristal con la misma dirección del cristal y diferente espesor de cristal sobre un único sustrato de silicio cristalino. La tecnología de crecimiento epitaxial es necesaria para la fabricación de componentes semiconductores discretos y circuitos integrados, porque las impurezas contenidas en los semiconductores incluyen el tipo N y el tipo P. Mediante la combinación de diferentes tipos, los dispositivos semiconductores presentan una variedad de funciones.


El método de crecimiento de epitaxia de silicio se puede dividir en epitaxia en fase gaseosa, epitaxia en fase líquida (LPE), epitaxia en fase sólida y el método de crecimiento por deposición química de vapor se usa ampliamente en el mundo para cumplir con la integridad de la red.


El equipo epitaxial de silicio típico está representado por la empresa italiana LPE, que tiene un tor hipnótico epitaxial tipo panqueque, un tor hipnótico tipo barril, un hipnótico semiconductor, un portador de oblea, etc. El diagrama esquemático de la cámara de reacción del hypelector epitaxial en forma de barril es el siguiente. VeTek Semiconductor puede proporcionar un hypelector epitaxial de oblea en forma de barril. La calidad del pelector HY recubierto de SiC es muy madura. Calidad equivalente a SGL; Al mismo tiempo, VeTek Semiconductor también puede proporcionar boquillas de cuarzo con cavidad de reacción epitaxial de silicio, deflectores de cuarzo, campanas de vidrio y otros productos completos.


Susceptor epitaxial vertical para epitaxia de silicio:


Schematic diagram of Vertical Epitaxial Susceptor for Silicon Epitaxy


Principales productos de susceptor epitaxial vertical de VeTek Semiconductor


SiC Coated Graphite Barrel Susceptor for EPI Susceptor de barril de grafito recubierto de SiC para EPI SiC Coated Barrel Susceptor Susceptor de barril recubierto de SiC CVD SiC Coated Barrel Susceptor Susceptor de barril recubierto de SiC CVD LPE SI EPI Susceptor Set Conjunto de receptores LPE SI EPI



Susceptor epitaxial horizontal para epitaxia de silicio:


Schematic diagram of Horizontal Epitaxial Susceptor for Silicon Epitaxy


Principales productos de susceptores epitaxiales horizontales de Vetek Semiconductor


SiC coating Monocrystalline silicon epitaxial tray Recubrimiento de SiC Bandeja epitaxial de silicio monocristalino SiC Coated Support for LPE PE2061S Soporte recubierto de SiC para LPE PE2061S Graphite Rotating Susceptor Receptor giratorio de grafito



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CVD SIC Coating desconcertante

CVD SIC Coating desconcertante

El deflector CVD SIC de Vetek se usa principalmente en SI Epitaxy. Por lo general, se usa con barriles de extensión de silicio. Combina la alta temperatura y estabilidad únicas del deflector de recubrimiento SIC CVD, lo que mejora enormemente la distribución uniforme del flujo de aire en la fabricación de semiconductores. Creemos que nuestros productos pueden brindarle tecnología avanzada y soluciones de productos de alta calidad.
Susceptor de barril recubierto de SiC

Susceptor de barril recubierto de SiC

La epitaxia es una técnica utilizada en la fabricación de dispositivos de semiconductores para cultivar nuevos cristales en un chip existente para hacer una nueva capa semiconductora. rendimiento de capa. Nuestro producto, como el susceptor de barril recubierto de SIC, recibió comentarios de posición de los clientes. También brindamos soporte técnico para SI EPI, SIC EPI, MOCVD, Epitaxia Liderada por UV y más. Siéntase libre de consultar la información de precios.
Si el receptor de EPI

Si el receptor de EPI

China Top Factory-Vetek Semiconductor combina mecanizado de precisión y capacidades de recubrimiento de semiconductores y recubrimiento TAC. El susceptor EPI de tipo Barrel SI proporciona capacidades de control de temperatura y atmósfera, mejorando la eficiencia de producción en los procesos de crecimiento epitaxial de semiconductores.
Receptor Epi recubierto de SiC

Receptor Epi recubierto de SiC

Como principal fabricante nacional de recubrimientos de carburo de silicio y carburo de tantalio, VeTek Semiconductor puede proporcionar mecanizado de precisión y recubrimiento uniforme de Epi Susceptor recubierto de SiC, controlando eficazmente la pureza del recubrimiento y del producto por debajo de 5 ppm. La vida útil del producto es comparable a la del SGL. Bienvenido a consultarnos.
Conjunto de receptores LPE SI EPI

Conjunto de receptores LPE SI EPI

El susceptor plano y el susceptor de barril son la forma principal de los susceptores epi. VeTek Semiconductor es un fabricante e innovador líder de conjuntos de susceptores LPE Si Epi en China. Nos hemos especializado en recubrimientos de SiC y recubrimientos de TaC durante muchos años. Ofrecemos un susceptor LPE Si Epi Conjunto diseñado específicamente para obleas LPE PE2061S de 4". El grado de coincidencia del material de grafito y el recubrimiento de SiC es bueno, la uniformidad es excelente y la vida útil es larga, lo que puede mejorar el rendimiento del crecimiento de la capa epitaxial durante el proceso LPE (epitaxia en fase líquida). Le invitamos a visitar nuestra fábrica en China.
Susceptor de barril de grafito recubierto de SIC para EPI

Susceptor de barril de grafito recubierto de SIC para EPI

La base calefactora de oblea epitaxial tipo barril es un producto con tecnología de procesamiento complicada, que presenta un gran desafío para el equipo y la capacidad de mecanizado. Vetek semiconductor cuenta con equipos avanzados y amplia experiencia en el procesamiento de susceptores de barril de grafito recubiertos de SiC para EPI, puede proporcionar la misma vida útil que la fábrica original y barriles epitaxiales más rentables. Si está interesado en nuestros datos, no dude en contactarnos.
Como fabricante y proveedor profesional Epitaxia de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Epitaxia de silicio avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
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