Productos

Recubrimiento de carburo de silicio

VeTek Semiconductor se especializa en la producción de productos de recubrimiento de carburo de silicio ultra puro, estos recubrimientos están diseñados para aplicarse a grafito purificado, cerámica y componentes metálicos refractarios.


Nuestros recubrimientos de alta pureza están destinados principalmente a su uso en las industrias de semiconductores y electrónica. Sirven como capa protectora para portadores de obleas, susceptores y elementos calefactores, protegiéndolos de los entornos corrosivos y reactivos que se encuentran en procesos como MOCVD y EPI. Estos procesos son parte integral del procesamiento de obleas y la fabricación de dispositivos. Además, nuestros recubrimientos son adecuados para aplicaciones en hornos de vacío y calentamiento de muestras, donde se encuentran ambientes de alto vacío, reactivos y oxígeno.


En VeTek Semiconductor, ofrecemos una solución integral con nuestras capacidades avanzadas de taller mecánico. Esto nos permite fabricar los componentes base utilizando grafito, cerámica o metales refractarios y aplicar los recubrimientos cerámicos de SiC o TaC internamente. También brindamos servicios de recubrimiento para piezas suministradas por el cliente, lo que garantiza flexibilidad para satisfacer diversas necesidades.


Nuestros productos de recubrimiento de carburo de silicio se utilizan ampliamente en epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, proceso RTP/RTA, proceso de grabado, proceso de grabado ICP/PSS, proceso de varios tipos de LED, incluidos LED azul y verde, LED UV y UV profundo. LED, etc., que se adapta a equipos de LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI, etc.


Piezas del reactor que podemos hacer:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Recubrimiento de carburo de silicio varias ventajas únicas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parámetro de recubrimiento de carburo de silicio semiconductor VeTek

Propiedades físicas básicas del recubrimiento CVD SiC.
Propiedad Valor típico
Estructura cristalina FCC fase β policristalina, principalmente orientada (111)
Densidad del recubrimiento de SiC 3,21 g/cm³
Recubrimiento de SiCDureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g)
Tamaño del grano 2~10μm
Pureza química 99,99995%
Capacidad calorífica 640 J·kg-1·k-1
Temperatura de sublimación 2700 ℃
Resistencia a la flexión 415 MPa RT de 4 puntos
Módulo de Young Curva de 430 Gpa 4 puntos, 1300 ℃
Conductividad térmica 300W·m-1·k-1
Expansión Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

ESTRUCTURA CRISTALINA DE PELÍCULA CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Epi de oblea de una sola oblea Graphite Undertaker

Epi de oblea de una sola oblea Graphite Undertaker

El susceptor de grafito de Epi de obleas de Veteksemicon está diseñado para carburo de silicio de alto rendimiento (sic), nitruro de galio (GaN) y otro proceso epitaxial semiconductor de tercera generación, y es el componente de soporte central de la hoja epitaxial de alta precisión en la producción de masas.
Anillo de enfoque de grabado en plasma

Anillo de enfoque de grabado en plasma

Un componente importante utilizado en el proceso de grabado de fabricación de obleas es el anillo de enfoque de grabado de plasma, cuya función es mantener la oblea en su lugar para mantener la densidad de plasma y evitar la contaminación de los lados de la oblea. El semiconductor de Vetek proporciona un anillo de enfoque de grabado con plasma con diferentes materiales como el monocristalino silicon, el carburo de silicon, el carburo de corbidas y otros materiales de cerburo de cerámica.
Sic recubierto de e-chuck

Sic recubierto de e-chuck

Vetek Semiconductor es un fabricante y proveedor líder de chucks electrónicos recubiertos de SIC en China. La colgra electrónica recubierta de SIC está especialmente diseñada para el proceso de grabado de obleas GaN, con un excelente rendimiento y una larga vida útil, para proporcionar soporte completo para su fabricación de semiconductores. Nuestra fuerte capacidad de procesamiento nos permite proporcionarle el susceptor de cerámica SIC que desea. Esperando su consulta.
Placa de grabado de SIC ICP

Placa de grabado de SIC ICP

Veteksemicon proporciona placas de grabado ICP SIC de alto rendimiento, diseñadas para aplicaciones de grabado ICP en la industria de semiconductores. Sus propiedades de material únicas le permiten funcionar bien en ambientes de alta temperatura, alta presión y corrosión química, lo que garantiza un excelente rendimiento y estabilidad a largo plazo en varios procesos de grabado.
Unidad de calefacción de grafito

Unidad de calefacción de grafito

La unidad de calentamiento de grafito de semiconductores vetek es una solución de calentamiento industrial de alto rendimiento hecha de material de grafito de alta pureza, que puede proporcionar un efecto de calentamiento preciso y eficiente. La unidad de calefacción de grafito se usa ampliamente en semiconductores, electrónica, cerámica y otros campos. Dé la bienvenida a su investigación adicional.
Susceptor LED de UV profundo recubierto de SIC

Susceptor LED de UV profundo recubierto de SIC

El susceptor LED UV profundo recubierto de SIC está diseñado para el proceso MOCVD para admitir un crecimiento de la capa epitaxial de LED UV profunda y estable de Deep. Vetek Semiconductor es un fabricante y proveedor líder de susceptor LED profundo recubierto de SIC en China. Tenemos una rica experiencia y hemos establecido relaciones cooperativas a largo plazo con muchos fabricantes epitaxiales LED. Somos el principal fabricante nacional de productos de susceptores para LED. Después de años de verificación, la vida útil de nuestro producto está a la par con la de los principales fabricantes internacionales. Esperando su consulta.
Como fabricante y proveedor profesional Recubrimiento de carburo de silicio en China, tenemos nuestra propia fábrica. Ya sea que necesite servicios personalizados para satisfacer las necesidades específicas de su región o desee comprar Recubrimiento de carburo de silicio avanzado y duradero realizados en China, puede dejarnos un mensaje.
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