Recubrimiento de carburo de silicio

El susceptor de grafito recubierto de SiC Veteksemicon para ASM es un componente portador central en procesos epitaxiales de semiconductores. Este producto utiliza nuestra tecnología patentada de recubrimiento de carburo de silicio pirolítico y procesos de mecanizado de precisión para garantizar un rendimiento superior y una vida útil ultralarga en entornos de procesos corrosivos y de alta temperatura. Entendemos profundamente los estrictos requisitos de los procesos epitaxiales en cuanto a pureza del sustrato, estabilidad térmica y consistencia, y estamos comprometidos a brindar a los clientes soluciones estables y confiables que mejoren el rendimiento general del equipo.

El anillo de enfoque Veteksemicon está diseñado específicamente para equipos de grabado de semiconductores exigentes, en particular aplicaciones de grabado de SiC. Montado alrededor del mandril electrostático (ESC), muy cerca de la oblea, su función principal es optimizar la distribución del campo electromagnético dentro de la cámara de reacción, asegurando una acción del plasma uniforme y enfocada en toda la superficie de la oblea. Un anillo de enfoque de alto rendimiento mejora significativamente la uniformidad de la tasa de grabado y reduce los efectos de los bordes, lo que aumenta directamente el rendimiento del producto y la eficiencia de la producción.

La placa portadora de carburo de silicio Veteksemicon para grabado de LED, diseñada específicamente para la fabricación de chips LED, es un consumible central en el proceso de grabado. Fabricado con carburo de silicio de alta pureza sinterizado con precisión, ofrece una resistencia química excepcional y estabilidad dimensional a altas temperaturas, resistiendo eficazmente la corrosión de ácidos, bases y plasma fuertes. Sus propiedades de baja contaminación garantizan altos rendimientos para las obleas epitaxiales LED, mientras que su durabilidad, que supera con creces la de los materiales tradicionales, ayuda a los clientes a reducir los costos operativos generales, lo que las convierte en una opción confiable para mejorar la eficiencia y la consistencia del proceso de grabado.

El anillo de enfoque de SiC sólido de Veteksemi mejora significativamente la uniformidad del grabado y la estabilidad del proceso al controlar con precisión el campo eléctrico y el flujo de aire en el borde de la oblea. Se utiliza ampliamente en procesos de grabado de precisión para silicio, dieléctricos y materiales semiconductores compuestos, y es un componente clave para garantizar el rendimiento de la producción en masa y el funcionamiento confiable del equipo a largo plazo.

El cabezal de ducha de grafito recubierto de CVD de Veteksemicon es un componente de alto rendimiento diseñado específicamente para procesos de deposición de vapor químico semiconductor (CVD). Fabricado a partir de grafito de alta pureza y protegido con un recubrimiento de carburo de silicio (SIC) de depósito de vapor químico (CVD), esta cabeza de ducha ofrece una excepcional durabilidad, estabilidad térmica y resistencia a los gases de proceso corrosivos. Esperamos su consulta adicional.

El soporte de oblea de recubrimiento de carburo de silicio por Veteksemicon está diseñado para precisión y rendimiento en procesos de semiconductores avanzados como MOCVD, LPCVD y recocido de alta temperatura. Con un recubrimiento SIC CVD uniforme, este soporte de oblea garantiza una conductividad térmica excepcional, inercia química y resistencia mecánica, esencial para el procesamiento de obleas de alto rendimiento sin contaminación.